需求公示[2019]0806哈尔滨商业大学_TSV600-PECVD型原子层薄膜沉积系统

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商品信息:
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1TSV600-PECVD型原子层薄膜沉积系统真空应用设备1/台280000280000
资格要求:
序号状态评审内容投标要求
1 新增相关要求1.必须具备《政府采购法》第二十二条规定的条件2.本项目拒绝联合体投标。 3.交货时间:合同签订后30日历日内 4.交货地点:指定地点5投标有效期:90天
商务要求:
序号状态分值招标文件商务要求评审标准评审选项
1 新增20详见招标文件无(0分)

技术要求 :
品目序号状态配置招标文件技术参数要求加减分标准评审选项
TSV600-PECVD型原子层薄膜沉积系统1 新增参数1不锈钢炉体,前开门结构。炉腔尺寸: 300 mm宽X300mm高×500mm长,内部有效使用空间:250(宽)×250(高)×350(长) 正偏离(0分)
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基本满足要求

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2 新增参数2工作真空:大气至2×10-3Pa<40分钟。极限真空度:5×10-4Pa(空载加温200度3小时后) 正偏离(0分)
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基本满足要求

得基础分(0分)

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3 新增参数32组流量计充气系统, 2组针阀充气系统一套柔性材料收放卷系统 正偏离(0分)
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基本满足要求

得基础分(0分)

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正偏离(+0分)

4 新增参数4一组加热烘烤控温系统,最高烘烤温度200℃,100-200℃温度可调可控。温度均与性:±1℃(117℃) 正偏离(0分)
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基本满足要求

得基础分(0分)

正偏离

正偏离(+0分)

5 新增参数5一套射频PECVD等离子低温原子层沉积PLC触摸屏控制系统 正偏离(0分)
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基本满足要求

得基础分(0分)

正偏离

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需求公示:
序号供应商提问时间提问内容回复内容

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 沉积系统 薄膜 原子层

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