中国科学院长春光学精密机械与物理研究所等离子体低温掺杂膜沉积系统采购项目国际招标公告(1)0709-194035614004
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所等离子体低温掺杂膜沉积系统采购项目国际招标公告(1)0709-194035614004
中国仪器进出口集团有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2019-07-12在公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况::为满足国家在半导体激光器领域的重大战略需求,近年来实验室大功率半导体激光学科在新型半导体激光器及其混合集成方面发展迅速,对一些特殊膜沉积工艺要求越来越高。在长春光机所重大创新项目“窄线宽半导体激光技术研究”的研究中,不仅如传统激光器工艺一样需要多次生长氧化硅或氮化硅薄膜做掩膜或绝缘层,还需要研制外腔氧化硅波导光栅,波导芯层厚度要求为3-4μm,上下包层厚度要求为5-20μm不等,既能满足与增益芯片光场模式匹配又能防止光场泄露,同时要求芯层材料折射率可调,整个波导采用无应力沉积。另外,在高深宽比光栅刻蚀方面,需要在高深宽比刻蚀图形上均匀沉积薄膜。在有机无机混合集成激光器方面,沉积工艺温度不能过高防止聚合物变性。上述研究方向对实验室原有PECVD的功能提出了严峻的挑战,该设备采用气相沉积原理沉积速度非常慢,不适合波导层制备,并且随着厚度增加应力增加,没有折射率调整功能,且沉积温度为300℃不可调,无法实现上述研究方向对特殊薄膜沉积的需要。因此,本项目等离子体低温掺杂膜沉积系统是基于以上需求提出并实施的。
资金到位或资金来源落实情况:招标人已拥有资金/贷款用于支付本次招标后所签订合同项下的款项
项目已具备招标条件的说明:招标人资金已就位,具备招标条件。
2、招标内容
招标项目编号:****-********4004
招标项目名称:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所等离子体低温掺杂膜沉积系统采购项目
项目实施地点:中国吉林省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子体低温掺杂膜沉积系统 | 1套 | *2.4 上、下电极: 铝制上电极,可加热到最高300度;铝制下电极,上面放置石英盖板,可处理4英寸样品,可加热到最高350度。 *2.5射频源: 射频源包括射频发生器、并配置自动匹配单元,采用阴极匹配方式(Cathode coupled)以实现更高的沉积速率,下电极连接射频源,频率13.56 MHz,功率≥ 300 W;反射功率小于5W。 *2.6 气路系统: (1)气体管路:不少于五路气体管路,包括SiH4,NH3,N2,O2,CF4等工艺气体;每路气路均配有质量流量计MFC、颗粒过滤器和气动截止阀; (2)液体管路;配置TEOS液体tank并加满TEOS液态源,304不锈钢制,容量大于等于700ml;tank带加热系统,可以加热到75~85度;管路配置相应的质量流量计MFC,金属密封,VCR接头;tank具有过热保护功能; (3)Ge参杂工艺管路:配置TMG液体tank并加满TMG液态源,304不锈钢制,容量大于等于700ml;tank带加热系统,可以加热到75~85度;管路配置响应的质量流量计MFC,金属密封,VCR接头;tank并且具有过热保护功能。 |
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