磁控溅射镀膜机招标公告
磁控溅射镀膜机招标公告
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 磁控溅射镀膜机 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2019-09-12 11:33 |
| 竞价结束时间： | 2019-09-16 15:43我要报价 |
| 申购备注： | 付款方式(以备注为准)：国产设备：1.货到合同指定地点并安装调试验收合格后，凭验收报告在10个工作日内支付合同总金额的（100）%。2.供应商在申请验收前，须先把合同质保金（5）%交到采购人指定账户，并开具合同金额100%发票；3.在验收合格之日起的（一）年后无质量问题，经采购人认可，一次性将合同质保金无息退还供应商。;送货时间(以备注为准)：签订合同后3天 |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 杭州赛威斯真空技术有限公司 | SVAC-FilmLab-S400 | 是 | 真空腔室Φ300×H350mm；前开门，底置抽气系统。304不锈钢真空室，内表面抛光真空系统1、前级泵：机械泵(4L/s）；2、主抽泵：复合分子泵(FF150/620)；3、前级阀：KF40角阀；4、旁抽阀：KF40角阀；5、主抽阀：手动闸板阀(CC-150)；6、电磁压差式充气阀： KF40角阀；极限真空优于6.7×10-5Pa抽速速率9.0×10-4低于45分钟基片台1、基片台形状，大小根据客户定制；2、基片台加热或者水冷，加热温度根据客户需求调节；3、基片台旋转，转速0-25rpm 可调；4、基片台升降，升降距离根据客户选择；靶及电源1、两个两英寸的磁控靶；2、配一台1000VA射频磁控溅射电源，一台1000VA直流电源。电控系统及报警保护程序互锁以及水压报警，过流过压等异常情况进行警报及执行相应的保护措施。设备结构说明真空腔室3.1.1 材料与尺寸：真空腔室、连接管道和所有法兰均采用优选的 304 不锈钢，材料致密放气量小；真空腔室尺寸：Φ300×H350mm；前移门，后开门结构。结构：前后开门真空腔体，顶部配有样品台，样品台挡板，侧部配有真空照明，底部配有磁控溅射靶两个，主抽气口位于腔体底部，前门配有石英玻璃视窗。3.1.2 加工工艺与技术指标：1)采用本公司超高真空腔室加工工艺，进口真空系统氦质谱检漏仪全程跟踪检漏，腔室内表面抛光处理。2)泄露率：1.0×10-10Pa/m3/s；真空系统真空机组1）真空机组采用复合分子泵+直联旋片泵准无油真空机组；2）分子泵：型号FF-150/620，抽速：620L/s；3) 机械泵：抽速：4L/s；真空阀门主阀采用手动闸板阀(CC-150)；预抽阀、前级阀采用KF40角阀；电磁充气阀采用KF40角阀；真空测量真空测量采用“两低一高”数显 ZDF-5227BY v01复合真空计，测量范围：1×105～1×10-5Pa；磁控靶1）2英寸磁控靶，数量：2支，可调角度靶；2）磁控靶配有磁力耦合传动挡板；溅射电源：1000VA的一组进口直流磁控溅射电源，1000VA的一组进口射频磁控溅射电源；数量：各1台基片台1）可以根据客户基片形状和大小定制基片托；2）基片台旋转：转速0-25rpm 连续可调；3）基片台挡板：电动，磁力耦合密封；4）基片台加热或者水冷，基片台升降，可根据客户需求定制。总进水与出水接制冷循环水机，控温范围 10–25 ℃。给分子泵、磁控靶、磁流体等提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。需通入两路工艺气体，一路Ar，一路N2，采用气体流量计控制。整套控制系统采用触摸屏控制:。控制内容：a)按钮控制：机械泵，分子泵，插板阀，前级阀，放气阀，预抽阀，充气阀b)系统保护：急停控制c)数显:电控柜（与机架一体）：标准工业电控柜，组装真空系统控制、数显真空计、溅射电源、分子泵控制器等。 | 无 |
标签: 大学
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