根据《中华人民共和国政府采购法》等有关规定，现对大连理工大学ALD原子层沉积系统进行单一来源招标，欢迎合格的供应商前来投标。

项目名称：大连理工大学ALD原子层沉积系统

项目编号：DUTASD-F*******

项目联系方式：

项目联系人：李蕾

项目联系电话：0411- ********

采购单位联系方式：

采购单位：大连理工大学

采购单位地址：大连理工大学国际会议中心（科技园大厦C座）409室

采购单位联系方式：李蕾lilei@dlut.edu.cn

一、拟采购的货物或者服务的说明:

本项目拟购置的原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition）是一种原子尺度的薄膜制备技术，它可以沉积均匀一致、厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展，器件和材料的尺寸和精度要求越来越高，同时器件结构中的宽深比不断增加，这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术，其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。

二、采用单一来源采购方式的原因及相关说明:

大连理工大学化工与环境生命学部精细化工国家重点实验室，化学工程与技术学科公共平台建设，主要研究金属氧化物和金属氮化物在不同样片上的三维薄膜生长情况，研究其阶梯覆盖率、薄膜生长的均匀性、以及可以到光学级别的表面粗糙度。通过原子层级别的薄膜生长，在材料、半导体、生物、航空、电子、MEMS等行业的广泛应用具有重要理论意义和实际应用基础。本项目能够提供不均匀小于1A的光学级别的高品质薄膜。

基于该项目研究内容，本项目拟采购的原子层沉积系统要求能够提供优于+/-0.35%左右的超高均匀性，以及接近于100%的阶梯覆盖率，并可以实现大于100:1的大深宽比的深孔沉积，可以真正意义上控制原子层级别的厚度生长，并且可以预留后期以较低成本升级到PEALD的应用。

国内一些公司生产的原子层沉积系统一般只能提供+/-1%以上的均匀性，在阶梯覆盖率大概只能在90%左右，深宽比一般很难超过20:1，无法满足应用。

国际上同类型的原子层沉积系统，虽然阶梯覆盖率能够接近于100%，但均匀性大概都只能接近于+/-1%，在深宽比方面也很难支持超过50:1的高深宽比应用，也无法满足要求。并且在定制方面能力比较弱，难以后期扩展升级。

NANO-MASTER公司的NTE-3000型原子层沉积系统，因其具备非常强的薄膜工艺方面的能力，属于国际上少数能够同时提供PVD物理气相沉积、CVD化学气相沉积、干法刻蚀以及湿法刻蚀系统方面的技术的产品供应商。因此，只有NANO-MASTER公司的NTE-3000型原子层沉积系统能够满足本项目技术要求的需要，只能采用单一来源采购方式进行采购。

三、开标时间：2019年09月18日 14:00

四、拟定的唯一供应商名称及其地址：

制造商名称：NANO-MASTER CHINA Co.,Limited 代理商名称：大连子末科技有限公司 地址：辽宁省大连市甘井子区七贤东园28号1单元6层1号

五、其它补充事宜

六、预算金额

预算金额：120.0 万元（人民币）