原位纳米反应离子刻蚀系统招标公告

招 标 正 文
 

原位纳米反应离子刻蚀系统招标公告


原位纳米反应离子刻蚀系统（JLU-KC19248）采购公告
项目名称原位纳米反应离子刻蚀系统项目编号JLU-KC19248
公告开始日期2019-10-16 14:56:52公告截止日期2019-10-19 16:00:00
采购单位吉林大学付款方式
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求国内合同签订后3天
预 算￥400,000.00
收货地址吉林大学唐敖庆楼D区130室
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件


采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
原位纳米反应离子刻蚀系统1台光学仪器

品牌贺佳(北京)科技有限公司
型号SHL100-RIE
预算￥400,000.00
技术参数及配置要求原位纳米反应离子刻蚀系统：主要分为四个部分。
1.工艺腔
1.1基片尺寸：兼容4英寸及以下样品片，同时兼容碎片及相应配套载片装置。
1.2RF 电源： 500W 可调， 13.56MHz，自动匹配。
1.3基片控温：温度控制范围10℃——室温。带循环水冷、He背冷装置。
1.4可刻蚀材料：四族材料：SiO2, 石英, SiNx, SiC等。有机材料： PR、 PMMA等。
2.真空系统
2.1 防腐前级泵：抽速>10L/S
2.2 耐腐分子泵：抽速>600L/S，腔室极限真空10-4Pa
2.3 真空隔断阀：气动角阀
2.4 真空测量：电容薄膜真空机，压力开关
3.气路系统
3.1气体种类与数量：四路独立气体，包括O2, Ar, CF4, CHF3。气体种类可更换。
3.2气体流量：0-300sccm可调。
4.控制系统
4.1全自动控制，触摸屏操作，一体型整机机台。
4.2安全防护控制：软硬互锁机制、机台异常处理与急停机制，开机后全程对冷却水，启动及各真空系统阀门进行监控。
售后服务质保期:一年;

2019-10-16 14:56:52


联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

标签: 刻蚀 纳米

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