低压磁控溅射镀膜系统,金相显微镜招标公告
低压磁控溅射镀膜系统,金相显微镜招标公告
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 低压磁控溅射镀膜系统,金相显微镜 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 科研设备 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2019-10-23 16:42 |
| 竞价结束时间： | 2019-10-29 18:00我要报价 |
| 申购备注： | 1.项目名称：微纳功能薄膜结构制备与表征平台。2.报价要求说明：低压磁控溅射镀膜系统（品牌：普迪真空，型号：PD400）、金相显微镜（品牌：微域光学，型号：MX6000）报价要求为非进口含税价格。3.卖方应随设备（“设备”是指含设备、软件、数据库等由本项目采购文件所确定的标的物及相关服务）提供随机工具包、必备的配件、完整配套的产品说明及响应的技术文件资料，其中包括设备出厂检验证书、合格证、使用说明和设备维护手册等。4.国产设备付款方式：货到验收安装调试合格，凭收货单位验收单和发票10日内由买方向卖方支付90％的合同款；卖方所提供的所有设备全部安装调试合格、经正常运行一年后，如无质量问题，凭买方相关单位的证明10日内无息支付尾款。5.交货时间：国产设备-签订合同后 30日内交货并安装调试合格。 |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 低压磁控溅射镀膜系统 | 1 | 套 | 普迪真空 | PD400 | 是 | 按行业标准提供服务 | 1.真空腔室：设备电气一体化设计，前门带玻璃观察窗，腔室预留有照明和膜厚仪等设备接口；★2.真空系统：主泵分子泵抽速不低于1200L/S，直联旋片泵抽速不低于9L/S;真空系统,气动主阀，真空测量：两低一高数显复合真空计；3.真空极限：优于5.0×10-5Pa；漏率：优于5×10-8Pa*L/S（国家标准）；关机12小时后，真空度≤5Pa；(设备和手套箱分体，设备空载抽真空20小时)；4.抽速：抽气时间：大气压~5*10-4Pa小于25min；设备升压率≤0.8Pa/h；5.30min内，反应腔体可从大气抽真空至5E-6 Torr,本底极限真空＜ 5E-7 Torr。该系统具备极强的可扩展性，后期可升级配备自动进样室可一次传递6寸硅片一片；★6. 磁控溅射靶枪，不少于3组尺寸≥3英寸磁控溅射靶枪（性能不低于Angstron、HHV等），靶材利用率》40％。★7.配备RF射频源2套，射频电源频率：13.56兆赫兹，功率：500W 离子能量10ev-100ev 。★8.系统溅射真空度在10-4torr（比常规磁控溅射高一个量级），溅射成膜更致密，能溅射超薄氧化物膜层。9.配备直流溅射电源一套。10. 4-6英寸膜厚不均匀性优于±5％。11.系统加热最高温度500°，具备等离子清洗功能，功能全面，使用灵活，适合于工艺研发及教学生产要求。12.提供工艺气体Ar O2,2罐 | 登陆后可下载附件 |
| 金相显微镜 | 1 | 套 | 微域光学 | MX6000 | 是 | 按行业标准提供服务 | 1. 平场金相物镜 5×,10×，20×，50×；光学倍率：50-500x，数码倍率125x-1250x；2.观察筒：铰链式三目镜组，30°倾斜，瞳距调节50mm～75mm，视度调节±5屈光度，转换分光比0∶100；3.物镜转换器：内倾式内定位四孔转换器；4.偏光装置：反射起偏器，可调检偏器；5.粗微调焦装置：粗微同轴调焦，粗调行程25mm，微调每圈0.2mm，微调格值2μm，粗调带松紧调节，并且带有调焦上限位装置；6.照明系统：反射，超长使用寿命LED柔和光源（宽电压输入100V～240V）；7.配置：1） 物镜：PL L5X/0.12、L L10X/0.25、PL L20X/0.40、PL L50X/0.602） 数码成像系统：500万像素3） 电脑一台带21寸显示器 | 无 |
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