武汉大学真空镀膜机采购招标公告

根据国家采购与招投标法律法规的有关规定，武汉大学拟对物理学院真空镀膜机采购进行公开招标，欢迎具备相应资质和实力的供应商参加投标。现将有关事项公告如下：
一、招标范围：
（主要技术指标：见附件）
二、供应商资格要求：
投标人必须是中国境内注册的独立法人,不能是法人联合体。
三、获取招标文件的时间、地点：
1、获取招标文件时间：2011年9月16日至2011年9月23日上午，上午8:30－11:30,下午2:30－5:30(北京时间,节假日除外)；
2、获取招标文件地点：武汉大学采购与招投标管理中心407室；
四、投标截止时间、开标时间及地点：
1、投标截止及开标时间：2011年9月27日上午8:45；
2、投标、开标地点：武汉大学采购与招投标管理中心；
五、采购人、联系人、技术负责人等：
采购人名称：武汉大学
采购联系人：吴老师 张老师
联系电话： （027）******** ********
采购项目技术负责人：刘传胜
联系电话：189*****093


武汉大学采购与招投标管理中心
2011- 9 - 16


附件：技术要求
一、 设备概述
1. 设备主要功能：能镀制多元陶瓷刀具涂层、活塞环涂层的多功能涂层设备。采用先进的自动控制系统，能够实现全自动化生产。
2. 设备基本构成：炉体尺寸：Ф1100×1000mm。双层水冷，材料采用304不锈钢。18个圆弧靶在炉体两边均布。下转架系统，三维夹具，中心加热，前开门。
3. 真空抽气系统：高真空多功能镀膜系统采用“分子泵+机械泵”真空系统；
4. 真空测量系统：欧瑞康莱宝 ptr90 center one
5. 加热系统：采用国内知名品牌18KW加热器；
6. 温度测量系统：加热温度450℃±5℃，温度控制采用3套（日本岛电）PID温控仪。
7. 气路系统：德国BURKERT，8711型，1000SCCM/2台，500SCCM/2台；
8. 电源系统：弧靶电源选用瑞菱电源，偏压采用普斯特30kw脉冲偏压电源。
9. 工装系统：采用三维旋转结构，每个刀具可以进行旋转。
10. 控制系统：三菱Q系列PLC逻辑控制器及功能模块、触摸屏。?根据设定的程序自动完成抽真空，流量计参数设定及控制，基片台转速设定及控制，温控设定及控制，电源电流、电压及镀膜时间的设定与控制，真空计显示等。操作便捷、镀膜工艺重复性，稳定性有保障。控制柜上配有完备的手动控制面板、按钮和仪表。
二、主要技术指标及配置：
1. 极限真空度：6.67X10-4Pa.
2. 工作真空度：6.67X10-3Pa.
3. 抽速：从大气抽至6.67X10-3Pa，15分钟；
4. 压升率：0.5Pa/小时；
5. 设备耐温：可在400℃条件下长期稳定工作；
6. 工位： 12个。
7. 电气控制系统：手动/PLC全自动控制，可运行多种工艺设置；