项目单位：清华大学

招标代理机构：清华大学

清设报第201185号
清华大学拟对购置紫外光光刻机项目进行招标，欢迎具有相应资质的单位报名参与投标。项目情况及相关要求如下：
一、项目简介
清华大学电子工程系购置设备紫外光光刻机用于半导体材料加工工艺中高精度的光刻与套刻。
二、招标内容
紫外光光刻机1台，主要技术指标要求如下：
（一）技术指标
1. 曝光系统
（1）曝光波长：350-450nm
（2）曝光灯功率：350W
（3）★分辨率：优于0.8mm（光刻胶厚度1微米时）
（4）★ 套刻精度：优于±0.5mm
（5）★ 光强均匀度：100mm直径内优于±3％
（6）★ 曝光光强：365nm波长的光强不低于40mW/cm2
（7）曝光模式：可支持硬接触、软接触、接近和真空等模式
2. 对准显微镜系统
（1）★ 显微镜目镜：10倍一对
（2）★显微镜物镜： 5倍，10倍，20倍各一对；各种倍率物镜间可方便转换。
（3）★ 物镜间间距调节范围：32-100mm
（4）显微镜调节范围：X及Y方向调节范围≥±40 mm；q: ±3°
（5）精确调焦范围：2000mm
3. 对准夹具
（1）★芯片：10x10mm及20x20mm小片；1英寸方片及4英寸圆片。
（2）掩膜版：与各种尺寸的芯片夹具对应的掩模版夹具。
4. 对准台
（1）对准台行程的范围：
X：±5mm； Y：±5mm； q：±5°
（2）★ 对准台机械调节分辨率：不低于0.1mm
（3）★ 对准台角度调节分辨率：不低于4x10-5°
（二）设备配置
1. 光刻机主机：含有机械、气动及电控装置，220V，50/60Hz；高精度对准台；芯片楔形及厚度补偿系统；掩膜版安装适配系统；对准显微镜操作台；曝光单元及灯室。
2. 显微镜对准系统：高分辨率分离视场对准显微镜；三目镜筒；一对10倍目镜,三目物镜转换器；5倍，10倍，20倍物镜各一对；可调节数值孔经设定亮度；显微镜照明装置。
3. 曝光光学系统：曝光汞灯安装适配器；350瓦曝光汞灯3只；曝光控制电源；具有消衍射光学系统的UV400光学系统；365nm滤光片。
4. 芯片夹具：10x10mm及20x20mm小片夹具；1英寸方片及4英寸圆片夹具
5. 掩模版夹具：掩模版尺寸为2"x2"及5"x5"
6. 附件：光强计；光强探头；真空泵；专用防震台。
三、资格预审要求
1．投标单位应为设备制造企业，独立法人，注册资金100万元（含）以上；
2．投标单位为国际知名半导体设备制造企业，在国内具有良好的售后服务能力；
3．投标单位营业执照（复印件，加盖公章）；
4．近三年高校业绩（合同复印件）。
报名时需提交以上资料，同时附上准备投标产品的品牌、型号以及该产品与本招标公告所开列的主要技术要求相对应的指标参数或文字表述。招标单位根据以上证明资料进行资格预审，招标人将从资格预审通过者中遴选邀请对象，未被邀请者恕不另行通知。
四、报名时间与地点
报名时间：2011年9月19日－2011年9月26日
（每天上午8:30-11:30，下午1:30-4:30，节假日休息）
报名地点：清华大学实验室与设备处9号楼203室
五、联系方式
联 系 人：王老师，刘老师 联系电话：010－********，********