哈尔滨工业大学磁控溅射镀膜机采购项目（GDC-****************1）网上竞价公告

公告日期： 2011-11-18 14:45:45
项目名称： 哈尔滨工业大学磁控溅射镀膜机采购项目
项目编号： GDC-****************1
中央国家机关政府采购中心受采购单位 哈尔滨工业大学 委托,
对下列货物及服务进行网上电子政府采购,现邀请合格投标人进行网上投标。

采购项目信息

开始日期： 2011-11-18 14:45:45 采购单位： 哈尔滨工业大学
截止日期： 2011-11-23 14:45:45 联系人： 高老师
送货地点： 哈尔滨市南岗区西大直街92号 联系电话： ****-********
到货时间：

采购结果公告后 45 天内 联系邮件： stt-@hit.edu.cn
剩余时间： 4天23小时
备注信息： *
资质要求： *
需求附件： 没有附件

采购商品列表

商品分类 参考品牌 规格型号 单位 数量 基本描述
实验室设备 * * 台 1

哈尔滨工业大学磁控溅射镀膜机采购项目
GDC-****************1
商品名称： 实验室设备
参考品牌： *
参考模型： *
商品产地： 中国
数量： 1
单位： 台
服务： *
备注： 主要技术指标：（一） 用途：主要用来开发纳米级单层及多层的导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等，同时基片台加负偏压可实现基片反溅清洗功能。（二） 功能特点：具有多靶磁控溅射功能（2-4个），附蒸发功能；溅射靶采用波纹管结构，永磁靶，方便调整角度；溅射靶采用中频/射频溅射；旋转加热基片台；真空系统（采用“分子泵+机械泵”）；并具有膜厚控制系统。（三） 主要参数： 1、 镀膜腔室：腔室尺寸Ф350 mm×H400mm，立式圆柱形（高300~500mm）、上下腔室，上翻盖结构，材质为优质不锈钢，所有焊缝连接采用氩弧自动焊接技术，内表面抛光，外表面进行喷砂、喷丸、电抛三项处理；Ф50~60mm观察窗（磁力密封）2套；预留标准法兰接口2个； 2、 基台：不锈钢基片台具有旋转功能，转速0-20转/分钟，可调、可控；基片台基片旋转轴采用磁流体密封；基片台尺寸Ф120mm左右；基台加热温度为室温~500 oC连续可调、可控；基片台配有手动挡板；基片台上设计有负偏压装置（能加-1000V偏压）； 3、 靶、电极：采用永磁靶，附（2KVA中频电源、500VA的射频电源、偏压电源）；配有蒸发电极；各靶、蒸发电极均有水冷功能；靶面与基片台间距手动可调、靶角度可调；每只靶配有1个气动防污挡板； 4、 真空测量系统：采用数显复合真空计测量真空度，真空度<8.0×10-5 Pa，排气时间<20分钟；相对固定部分采用金属密封，可动部分采用氟橡胶密封； 5、 气路系统：量程范围为0～50SCCM\0～100SCCM质量流量控制器2路，流量微调可控。 6、 膜厚控制系统：实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A（0.1 nm），同时具备与电源联锁功能，镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜。（四） 售后与培训 1、 产品质保期不少于一年（质保期内维修免费），供货时间不超过45天；产品实行“三包”，终身维修，对于质保期以外设备的维护，只收取成本费； 2、 供方需派技术工程师到需方单位对需方人员进行技术培训，使需方人员能掌握有关系统设备的使用、维护和管理，达到能独立进行操作、日常测试维护等工作。