高压原位双膜闭环控制气动DAC加压系统招标公告
高压原位双膜闭环控制气动DAC加压系统招标公告
项目名称 | 高压原位双膜闭环控制气动DAC加压系统 | 项目编号 | JLU-KC20030 |
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公告开始日期 | 2020-04-20 15:44:55 | 公告截止日期 | 2020-04-23 16:00:00 |
采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 国产:货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 国内合同签订后180个工作日内 |
预 算 | 未公布 | ||
收货地址 | 吉林大学 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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高压原位双膜闭环控制气动DAC加压系统 | 1 | 套 | 其他仪器 |
品牌 | 宜捷材料 |
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型号 | Hp-DM-21 |
技术参数及配置要求 | 1气压控制器(HP EM-DGC-CM2) 1.1双通道线性压力输出,原位自动线性双模加压; 1.2最大压力输出210 bar,精度0.005%,稳定性0.001%FS; 2低温冷台 2.1样品抖动±5um,平行度±0.02/600mm;适用于高压光学实验; 2.2预留电学接口与低温磁性样品台接口; 2.3样品端温度可调100K至室温,控制精度±1K; 3 DAC压机 3.1压力和温度参数可联调联动,均可原位在线监测调整; 3.2配合金刚石压砧最大实验压力≥30GPa; 3.3 DAC压机最小工作距离8mm,透射角度90度,整体高度≤15mm; 3.4压机2台,气膜10个; 3.5 超低荧光金刚石压砧6对 4 785nm激光器 4.1 波长785nm,线宽0.00001 nm; 4.2 带有semrock的滤光片120 1/cm 拉曼套件。 |
售后服务 | 服务网点:外地;电话支持:7x8小时;服务年限:三年;服务时限:报修后24小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:两年;能够配合我方进行产品定制,具有机械设计和加工能力。; |
2020-04-20 15:44:55
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