序号 | 货物名称 | 招标技术要求 |
1 | 磁学性质综合研究测量系统 | 1、磁学测量仪在提供1.9k~400k温度环境和0~7特斯拉的磁场环境的同时,用先进的数据采集、分析和处理手段进行全自动的磁学相关测量。仪器包括MPMS主机(含DC与VSM模式)、完全无液氦杜瓦系统选件 |
1.1主机: |
1.1.1温度区间:1.9 - 400 K 连续控制 |
▲1.1.2降温速度: 20 K/min(10K < T < 300K) 5K/min(1.9K < T < 10K)温度稳定性:±0.5% |
1.1.3 样品腔内径:9mm |
▲1.1.4磁场强度: ±7 T |
▲1.1.5磁场均匀度:4 cm 长度范围内达到0.01% |
1.1.6励磁速率:4 - 700 Oe/s |
▲1.1.7励磁分辨率:0.33 Oe |
1.1.8样品振动范围:0.1 - 8 mm(峰值) |
1.1.9最大测量磁矩:10 emu |
1.1.10测量灵敏度: |
≤2500 Oe:≤5×10e-8 emu(DC scan)≤1×10e-8 emu(VSM) |
>2500 Oe:≤6×10e-7 emu(DC scan)≤8×10e-8 emu(VSM) |
1.2完全无液氦杜瓦系统选件: |
1.2.1功率: 3相 15A 最大9KW |
1.2.2系统启动:2瓶高纯氦气 |
1.2.3启动时间: 30小时 |
1.2.4压缩机冷却方式: 水冷 |
▲1.2.3系统兼容性:可完美升级商用的交流磁化率、光磁测量、高级电输运测量等功能。 |
2、磁光用低振动制冷机 |
2.1▲采用紧凑设计,冷头部分可以放置于光学平台上,并和制冷压缩机分开; |
2.2制冷压缩机为气冷式,不需要水冷; |
2.3输入电源:单相电,无需三相电; |
2.4▲带有出厂报告,基系统(未添加任何额外组件)震动稳定性:<10nm(峰峰值); |
2.5基系统(未添加任何额外组件)冷头最低温度不高于4K; |
2.6制冷时间:基系统(未添加任何额外组件)300K-4.2K降温时间不超过6小时; |
2.7温度稳定性:基系统(未添加任何额外组件)峰值波动小于25mK; |
2.8设备终身不需要补充液氦; |
2.9 样品处于真空环境,通过固态传导制冷,非氦气传导制冷; |
2.10 带有五个光学窗口,侧面四个,顶部一个。 |
2.11 在基系统之外配有下列组件: |
2.11.1 占用两个侧面窗口的嵌入式磁体一对; |
2.11.2 适于磁光克尔测量的极尖与样品托一组; |
2.11.3 可将样品腔延长至120mm的延长组件一套; |
2.12 ▲可与NanoMOKE3磁光克尔测量仪联用。 |
3、磁光克尔测量仪 |
3.1 ▲具备多种磁学测量与克尔显微功能,包括:单点LOOP功能、区域Mapping功能、Rastering磁畴成像功能、高速CCD磁畴成像功能、反射率成像功能。 |
3.2 ▲激光器:系统配备带有稳定系统的3R级红色固态激光二极管(660nm,<5mW)。强度噪声<0.02%RMS, 偏振噪声<0.5m degrms。备用光学窗口允许用户使用其它激光器。允许的外接激光器波长范围:400-700nm。 |
3.3 磁性测量:激光斑点可定位在样品表面的任意一点,测量该点的磁滞回线。在控制软件的实时显现图像中,双击感兴趣的区域即可完成样品定位。长距离的样品移动可通过手动光学位移台完成。 |
3.4 成像:在计算机的控制下,激光斑点在样品表面快速扫描,获取实时图像。采图频率:4幅/秒(高速)、1.7幅/秒(常规)、7秒一幅(高分辨)。成像模式:反射率成像、克尔信号成像。非磁性结构形成的背底信号,可在软件上进行去除。 |
3.5 光学透镜:物镜安装在光学箱的外部,可以方便安装和取下。可选透镜包括:50mm焦距标准极向克尔透镜(标准配件):可搭配四极电磁体、偶极磁体,常温及低温测量。 |
3.6 50mm焦距标准纵向克尔透镜(标准配件):可搭配四极电磁体常温测量。 |
3.7 高分辨极向克尔透镜(标准配件):可搭配四极电磁体常温测量。 |
3.8 电磁体:室温标准配置为四极磁体,可分别调节X、Y方向磁场强度,在样品平面内产生任意方向磁场。电脑控制,可产生任意波形磁场。X、Y方向最大磁强度1.2kG(0.12T)。通过霍尔探头连续测量磁体产生的实际磁场强度,反馈给控制软件同设定值比较,自动进行调节。 |
3.9磁场测量:通过两个霍尔探头分别对X、Y方向的实际磁场强度分量进行测量。 |
3.10 磁光效应:同步记录克尔信号和样品反射率。使用极向克尔物镜,激光沿0°角入射样品,记录极向克尔转角/椭偏率。使用纵向克尔物镜,激光沿45°角入射样品,记录纵向、横向克尔转角/椭偏率。 |
3.11 标准测试样品:随机含3个标准测试样品:1.30um宽、20nm厚坡莫合金微结构样品;2. 连续磁化材料样品,用于演示极向克尔效应、磁畴的动态克尔影像;3.20nm厚连续坡莫合金膜,用于演示纵向克尔效应、磁畴的动态克尔影像 |
3.12 循环速率:允许循环扫描速率0.01-70Hz,推荐循环扫描速率 0.1-30Hz。每个循环采样3000次。系统根据扫描速度,自动调节采样速率,优化信噪比。 |
3.13 振动隔离:被动式气垫隔离系统。 |
3.14 ▲可与S50无液氦低温制冷机联用。 |