招标书11275--多功能真空沉积系统

各公司、厂商：
　　上海理工大学上海市现代光学系统重点实验室因科研需求，特采购多功能真空沉积系统一台。现在网上公开招供应商，欢迎各单位参与投标。

　　一、系统功能
　　1.1标准热蒸发功能
　　1.2 反应热蒸发功能
　　1.3 石英晶振膜厚监控功能
　　1.4 光控膜厚监控功能
　　1.5 类原子层超薄膜沉积功能
　　1.6 热升华功能
　　1.7 立体样品薄膜沉积能力
　　1.8 自动控制功能
　　二、系统描述
　　真空系统：分子泵；直联旋片式真空泵；气动插板阀。直联旋片式真空泵与真空室之间及与分子泵之间均采用不锈钢硬管及波纹管连接。
　　真空室：热蒸发镀膜室为前开门立式结构, 采用不锈钢等材料制成，并经表面喷砂抛光处理，真空室带有水冷。样片台放置于室上部，可旋转，上加热方式，在样片附近通过陪片及热电偶进行测温。
　　功能：系统可通过更换热源技术，使热蒸发及升华两种薄膜生长技术予以不同时实现。系统支持“类原子层沉积”方式生长超薄薄膜。
　　控制：石英晶振技术、光控技术在线监测膜厚及工艺控制。
　　系统热蒸发及升华成膜时，支持反应蒸发、反应升华模式生长化合物薄膜，需配备3台质量流量控制器，3条气路。
　　系统采用全自动控制方式工作，也支持半自动控制，并具有各种安全保护及报警手段。
　　三、主要技术指标
　　3.1 蒸发室尺寸：腔体直径大于600 mm
　　3.2极限真空：9×10-5Pa（环境湿度≤55%）
　　3.3恢复真空抽气时间：从大气抽至7×10-3Pa≤20min
　　3.4反应沉积工作真空: ≤5×10-2Pa
　　3.5蒸发材料：Al等材料。
　　3.6热蒸发源：双热丝、双蒸发舟结构。
　　3.7蒸发不均匀性： ≤±5％
　　3.8工件台旋转：可自转，转速可调，1-25rpm。
　　3.9样品加热：样品通过电炉加热，温度≥600℃，可自动控温，测温。
　　3.10样品盘旋转：可自转，转速可调，1-25rpm。
　　3.11 样品行走速度：0.1-10mm/min连续可控，控制精度1%。

　　四、其他
　　对上述采购信息有意向的具有独立法人资格，有相应经营范围的厂商请于2011年12月19日（星期一）10：00前向上海理工大学设备招投标办公室提供下列相应资料：
　　1．相应单位资格材料：营业执照、税务登记、产品销售代理证明、法人授权证明等说明文件的复印件；
　　2．提交设备报价；
　　3．相应单位的联系地址，联系人、联系电话；
　　4．所有文件一式二份，并加盖公章方为有效。
　　投标截止时间： 2011年12月19日（星期一）上午10：00（标书必须封存并注明招标号）　
　　标书请寄：上海理工大学公共服务中心102室设备科(军工路516号 邮编200093)
　　联系电话（传真）：***-******** 缪老师
　　技术联系人 吴老师 ********


　 上海理工大学设备招标领导小组