等离子体增强方式化学气相薄膜沉积腔体（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）（后段以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅）评标结果公示公告(1)

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等离子体增强方式化学气相薄膜沉积腔体（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）（后段以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅）评标结果公示公告(1)

项目名称:等离子体增强方式化学气相薄膜沉积腔体（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）（后段以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅）评标结果公示公告(1)


项目名称：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积腔体（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）（后段以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅）
招标项目编号：****-********3508/02
招标范围：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积腔体（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）
招标机构：上海机电设备招标有限公司
招标人：华虹半导体（无锡）有限公司
开标时间：2020-10-09 09:30
公示开始时间：2020-10-30 19:59
评标公示截止时间：2020-11-02 23:59
中标候选人名单：
候选人排名投标商名称制造商制造商国别及地区
1沈阳拓荆科技有限公司沈阳拓荆科技有限公司中国

联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

标签: 二氧化硅 腔体

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