微纳测试加工（XF-WSBX-2100539）成交结果公告
微纳测试加工（XF-WSBX-2100539）成交结果公告
| 项目名称 | 微纳测试加工 | 项目编号 | XF-WSBX-******* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 163*****53000 | 公告截止日期 | 163*****00000 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款(人民币报价的，甲方在完成验收并获取乙方支付凭证后30日内向乙方一次性支付本项目的总款项。 需由甲方办理进口减免税业务的，只接受外币报价，汇率风险如无约定由甲方承担，境内产生的其他所有费用由乙方承担（包括可能加增的关税）。在甲方完成到货验收后30日内由甲方指定的外贸代理公司向乙方指定的外方公司一次性支付外币报价的全部款项。也可采用乙方交5%履约保证金后外贸公司见发货单支付外方公司100%款项)。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后7天 | 到货时间要求 | 无 |
| 预 算 | 300000.0 | ||
| 收货地址 | 无 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 微纳测试加工 | 1 | 项 | 其他服务行业 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | 300000.0 |
| 技术参数及配置要求 | 1、MA6制作光刻胶掩膜30小时2、NIKON-I12步进光刻机制作高精度光刻胶掩膜 30小时3、电子束光刻机高精度精细结构制作40小时4、冷场发射扫描电镜观察器件精细形貌 30小时5、等离子去胶机芯片表面清洁 28小时6、PECVD薄膜生长 20小时7、NLD 570刻蚀特定材料20小时8、金属干法金属刻蚀 20小时9、磁控溅射金属薄膜生长20小时10、电子束蒸发（Cr、Al、Ni等）生长部分金属20小时11、电子束蒸发（Au及合金）生长金及其合金 10小时12、划片机得到特定尺寸芯片 10小时13、超净间使用费小设备、超净间使用费 220小时 |
| 售后服务 | 无; |
标签: 加工
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