高真空磁控溅射薄膜沉积系统(GY202108060)自购结果公示

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统(GY202108060)自购结果公示

高真空磁控溅射薄膜沉积系统(GY********0)自购结果公示
发布时间：2021-11-23

该项目经自行采购程序，允许自购：

供应商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
中标金额： 490000
公示开始日期2021-11-23公示截止日期2021-11-24 12:51:37
采购单位微电子学院付款方式货到验收合格后一次性付款
签约时间要求到货时间要求
收货地址山东大学软件园校区
采购清单1
采购物品采购数量计量单位
高真空磁控溅射薄膜沉积系统1台
品牌沈阳科学仪器规格型号TRP450
技术参数系统的主要组成及技术指标 溅射室极限真空度：≤6.6x10-6 Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）系统从大气开始抽气：溅射室25分钟可达到6.6x10-4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）系统停泵关机12小时后真空度：≤10Pa。1 、溅射真空室真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф450mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～ 150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以设计为靶在上、基片台在下的结构方式）。2 、磁控溅射系统：3套2.1 、靶材尺寸：3英寸；2.2 、永磁靶（其中一个可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷, 品牌为沈阳科仪；2.3 、每个靶都配备气动控制挡板组件 1 套；2.4 、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；2.5 、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；2.6 、500w全自动调谐射频电源，2台；（可在三靶间实现手动切换），品牌为中山昊源；2.7 、500W直流电源，1台，品牌为吉兆源；2.8 、磁控靶与基片的距离可调，调节距离为：90~130mm。 3 、旋转加热基片台 3.1、基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；3.2、基片通过铠装加热器加热方式，加热炉加热温度：室温～750°C（为了配合样品台挡板，实际使用温度建议不超过500℃），连续可调；加热装置在真空室上法兰上，对基片托板进行加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示，品牌为日本山武；3.3、基片自转速度5～20转/分连续可调；（可触摸屏操作，定位转动：每次转动幅度90°）3.4、气动控制样品挡板组件 2套；（挡板共两个，一个90°直角开口，一个常规）；3.5、样品台安装-200V偏压电源（辅助沉积），品牌为中山昊源。4 、窗口及法兰接口部件4.1、Dg100玻璃窗口：1块，带衬玻璃；Dg35外照明玻璃窗口：1块，带衬玻璃；4.2、Dg16陶瓷封接引线法兰：1个（内烘烤引线）；4.3、盲法兰：Dg16：1个；Dg35：2个。5 、工作气路5.1、100SCCM（氩气）、50SCCM（氮气）、50SCCM（氩氧）质量流量控制器（品牌为日资厚礼博）、Dg16截止阀、管路、接头等共3路；经过混气室，由Dg16进气阀往真空室内充入工作气体，。5.2、Dg16放气阀、管路、接头等：1路（解除真空充入氮气）。6、抽气机组及阀门、管道（此配置抽速快、真空度高）6.1 、脂润滑分子泵及变频控制电源（1300L/S）：1台；品牌为北京科仪6.2 、无油涡旋干泵（10L/S）：1台；品牌为德国普发；6.3 、插板阀CF200：1台（用于复合分子泵与真空室隔离）；6.4 、旁抽角阀DN40：1台；6.5 、高真空挡板阀DN40：1台；6.6 、电磁压差式充气阀DN40：1台。6.7 、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套；6.8 、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套。 7、安装机台架组件 优质铝型材拼装成，快卸围板表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四个脚轮，可固定，可移动。8、真空测量及膜厚监测：采用数显真空计进行测量，测量范围：1x105Pa-6x10-7Pa.工艺真空测量，品牌为北京大学，采用薄膜压强真空规进行测量，测量范围：13Pa-0.0013Pa，品牌为美国Inficon. 膜厚监测仪：采用进口膜厚监测仪用于监测膜厚, 品牌为美国Inficon。9、冷却水循环机 1台 ，3.42KW ，品牌为 安格斯
售后服务服务网点:外地;质保期限:1年;响应期限:报修后12小时;


资产与实验室管理部


2021-11-23


联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

标签: 薄膜沉积系统 磁控溅射 真空

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