化学气相薄膜沉积设备中标结果公告(1)
化学气相薄膜沉积设备中标结果公告(1)
项目名称：化学气相薄膜沉积设备
项目编号：****-********6353/02
招标范围：化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的二氧化硅） 2等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的氮化硅） 1
招标机构：上海机电设备招标有限公司
招标人：华虹半导体（无锡）有限公司
开标时间：2022-01-18 09:30
公示时间：2022-02-17 14:58 - 2022-02-21 23:59
中标结果公告时间：2022-03-01 14:12
中标人：拓荆科技股份有限公司
制造商：拓荆科技股份有限公司
制造商国家或地区：中国
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