一、合同编号：D22Z******-0036

二、合同名称：中国科学院电工研究所双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备采购合同

三、项目编号：OITC-G*********

四、项目名称：中国科学院电工研究所双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备采购项目

五、合同主体

采购人（甲方）： 中国科学院电工研究所

地址： 北京市海淀区中关村北二条6号

联系方式：********

供应商（乙方）：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

地址：辽宁省沈阳市浑南区新源街1号

联系方式：024-********

六、合同主要信息

主要标的名称： 双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备

规格型号（或服务要求）：PVD500

主要标的数量：1

主要标的单价：*******

合同金额：109.******万元

履约期限、地点等简要信息：北京

采购方式：公开招标

七、合同签订日期：2022-05-06

八、合同公告日期：2022-05-06

九、其他补充事宜：

本合同对应的中标成交公告：

• 中国科学院电工研究所双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备采购项目中标公告

附件：

• D22Z******-0036双室高真空磁控溅射109万.pdf
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