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[HF20221214]高真空磁控溅射薄膜沉积系统成交公告

招标正文

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[HF20221214]高真空磁控溅射薄膜沉积系统成交公告

1.项目名称：高真空磁控溅射薄膜沉积系统

2.成交供应商名称：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

3.成交供应商地址：辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号

4.成交金额(币种)：(人民币)39.850万元

5.付款方式：合同签订后15个工作日之内预付合同金额的30%，货到验收合格后付合同金额60%，质保期满后15日内付10%尾款。

6.主要成交标的：

序号	（货物）名称	型号	制造商和产地	数量	单价(元)	小计(元)
1	高真空磁控溅射薄膜沉积系统	TRP450F	中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司/中国	1	******.00	******.00

华中科技大学材料科学与工程学院

2022年06月06日

联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

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