(AXF202200703)高真空磁控溅射镀膜机分散采购结果公告
(AXF202200703)高真空磁控溅射镀膜机分散采购结果公告
一、项目信息
项目名称:高真空磁控溅射镀膜机
管理部门:实验室建设与设备管理处
项目编码:AXF*********
采购方式:竞价采购
二、采购单位信息
采购单位名称:西南大学
采购单位地址:重庆市北碚区天生路2号
联系人:李晓东
三、成交信息
成交日期:2022-06-15
成交金额:******.00元(人民币)
成交供应商:重庆银纳机电有限公司
供应商联系地址:重庆市沙坪坝区小龙坎正街336-2-2号
四、采购小组成员名单
李晓东;黄月华;付兴兰
五、项目用途及合同履行日期
项目用途:科研
合同履行日期:2022-08-30
六、主要标的信息
序号 | 品目 | 商品名称 | 数量 | 计量单位 | 单价 | 型号/规格 | 详细参数 | 是否进口 | 品牌 | 产地 | 生产厂商 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
1 | 其他电工、电子专用生产设备 | 高真空磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 155,000 | JCP200 | 1.真空腔室: Ф220×H300mm,不锈钢上开盖结构;2.真空系统: 涡轮分子泵+直联旋片泵,电动真空阀门,数显复合真空计;3.真空度≤8.0×10-5Pa;4.抽速: 从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min;5.漏率: 设备升压率≤0.8Pa/h;6.可镀膜尺寸:2英寸1片,散片若干; 7.基片加热与旋转 衬底加热:室温~500℃,自动控温;基片旋转:0-20转/分钟,可调可控;8.溅射靶规格:2英寸圆形平面靶1只;9.膜厚不均匀性: ≤±5%(Ф50mm范围内);10.循环水机:制冷量2.8kW; | 否 | 泰科诺 | 中国 |
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