真空磁控溅射设备结果公告

真空磁控溅射设备结果公告


中标信息

成交供应商:北京泰科诺科技有限公司
选择理由: 总价最低,推荐成交
质疑投诉说明:如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至招标与采购中心,逾期不予受理。
项目名称真空磁控溅射设备项目编号TYLGJJCG2022-0305
项目编号TYLGJJCG2022-0305
公告发布日期2022/12/05 16:31报价截止时间2022/12/08 16:31
报价截止时间2022/12/08 16:31
采购单位太原理工大学付款条款合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
付款条款合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
联系人中标后在我参与的项目中查看联系手机中标后在我参与的项目中查看
联系手机中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算¥198,000.00成交金额¥197,000.00
成交金额¥197,000.00
送货/施工/服务期限合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地址太原市万柏林区迎泽西大街79号

采购清单
1
采购内容是否进口计量单位采购数量售后服务分项报价
真空磁控溅射设备11)所有仪器到达用户指定地点后,技术工程师在接到用户安装调试要求10个工作日内上门免费安装、调试。; 2)质保期为仪器安装验收合格后1年,质保期内,所有服务及配件全部免费; 3)制造商应终身负责维护维修。在用户提出维修要求5个工作日内到达现场,及时帮助客户解决问题,并免费对软件进行升级; 4)供货商免费提供现场培训,同时应提供2名(每台套)厂家培训中心免费培训名额。¥197,000.00
品牌及型号华析 (HC-300)泰科诺(JCP350)
技术参数要求1.真空磁控溅射设备主要由真空腔室、磁控溅射靶、电源、基片台、真空系统、气路系统、PLC+触摸屏半自动控制系统等组成。2.真空腔室:1)结构:采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结构;2)材质及尺寸:采用SUS304优质不锈钢,Ф350×H350mm真空腔室;顶板焊水线;3)腔室底部:2英寸圆形平面靶均匀分布;进气电磁截止阀;充气阀;4)腔室顶部:旋转基片台;及自动翻盖机构;5)侧部:DN150主抽气口;前方配有一套观察窗及挡板接口;6)旋转共溅射基片台接口位于镀膜室的顶部;7)预留接口:装膜厚仪以及其它用途;8)Φ100mm观察窗及挡板,位于前面;9)腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质,便于拆卸清理、更换等。3.基片台:抽屉式结构,基片台尺寸Φ120mm,最大样品尺寸小于Φ120mm:配有气动基片台挡板;配备通用夹具,方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片;绝缘装置:绝缘设计及绝缘件;基片台电机驱动:旋转转速0~20转/分钟,连续可调;主轴磁流体密封;加热:基片台环境温度800℃,采用铠装加热器及绝缘、屏蔽等;采用固态继电器和PID可编程智能温度控制仪方式,实现加热温度自动控制。4.溅射靶及电源:2只2英寸磁控溅射靶,靶角度、靶基距手动可调,永磁间接水冷方式,兼容直流、脉冲、射频等电源;靶基距调整范围80~110mm,方便调整最佳镀膜距离;直流脉冲溅射电源1kW,数字化控制及显示,1台;射频电源RF500W, 数字化控制及显示,1台;脉冲偏压电源:-1kV,数字化控制及显示,1台。5.真空系统:复合分子泵:JTFB-600,抽速600L/s;直联高速旋片式真空泵:TRP-24,抽速6L/s,合资品牌,抽速快,低噪音;前级/旁路阀:DN40,气动挡板阀;真空测量:“两低一高”数显复合真空计。6.工作气路系统:质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;N2,20sccm;电磁截止阀:Φ6mm;混气管:三进一出。7.气路系统:电接点压力表,用于气体压力保护报警;气排,用于各阀门之间分气使用。8.电气控制系统:1)采用PLC+触摸屏控制系统,可实现自动一键式抽真空;2)控制内容:机械泵、前级阀的开与关;分子泵显示及开关控制;真空计参数显示及控制;基片台转速控制等;3)安全保护报警系统:在缺水、水压过低情况下的报警系统;完善的逻辑程序互锁保护系统。9.含低噪音Ⅰ型空压机一台;含冷却循环水机一台。10.机架控制柜:机架和控制柜一体化设计,碳钢制作,底下配脚轮,方便移动、定位。


中标信息

成交供应商:北京泰科诺科技有限公司
选择理由: 总价最低,推荐成交
质疑投诉说明:如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至招标与采购中心,逾期不予受理。
项目名称真空磁控溅射设备项目编号TYLGJJCG2022-0305
项目编号TYLGJJCG2022-0305
公告发布日期2022/12/05 16:31报价截止时间2022/12/08 16:31
报价截止时间2022/12/08 16:31
采购单位太原理工大学付款条款合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
付款条款合同签订后预付合同金额的80%,货到验收合格后一次性支付剩余款项。
联系人中标后在我参与的项目中查看联系手机中标后在我参与的项目中查看
联系手机中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算¥198,000.00成交金额¥197,000.00
成交金额¥197,000.00
送货/施工/服务期限合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地址太原市万柏林区迎泽西大街79号

采购清单
1
采购内容是否进口计量单位采购数量售后服务分项报价
真空磁控溅射设备11)所有仪器到达用户指定地点后,技术工程师在接到用户安装调试要求10个工作日内上门免费安装、调试。; 2)质保期为仪器安装验收合格后1年,质保期内,所有服务及配件全部免费; 3)制造商应终身负责维护维修。在用户提出维修要求5个工作日内到达现场,及时帮助客户解决问题,并免费对软件进行升级; 4)供货商免费提供现场培训,同时应提供2名(每台套)厂家培训中心免费培训名额。¥197,000.00
品牌及型号华析 (HC-300)泰科诺(JCP350)
技术参数要求1.真空磁控溅射设备主要由真空腔室、磁控溅射靶、电源、基片台、真空系统、气路系统、PLC+触摸屏半自动控制系统等组成。2.真空腔室:1)结构:采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结构;2)材质及尺寸:采用SUS304优质不锈钢,Ф350×H350mm真空腔室;顶板焊水线;3)腔室底部:2英寸圆形平面靶均匀分布;进气电磁截止阀;充气阀;4)腔室顶部:旋转基片台;及自动翻盖机构;5)侧部:DN150主抽气口;前方配有一套观察窗及挡板接口;6)旋转共溅射基片台接口位于镀膜室的顶部;7)预留接口:装膜厚仪以及其它用途;8)Φ100mm观察窗及挡板,位于前面;9)腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质,便于拆卸清理、更换等。3.基片台:抽屉式结构,基片台尺寸Φ120mm,最大样品尺寸小于Φ120mm:配有气动基片台挡板;配备通用夹具,方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片;绝缘装置:绝缘设计及绝缘件;基片台电机驱动:旋转转速0~20转/分钟,连续可调;主轴磁流体密封;加热:基片台环境温度800℃,采用铠装加热器及绝缘、屏蔽等;采用固态继电器和PID可编程智能温度控制仪方式,实现加热温度自动控制。4.溅射靶及电源:2只2英寸磁控溅射靶,靶角度、靶基距手动可调,永磁间接水冷方式,兼容直流、脉冲、射频等电源;靶基距调整范围80~110mm,方便调整最佳镀膜距离;直流脉冲溅射电源1kW,数字化控制及显示,1台;射频电源RF500W, 数字化控制及显示,1台;脉冲偏压电源:-1kV,数字化控制及显示,1台。5.真空系统:复合分子泵:JTFB-600,抽速600L/s;直联高速旋片式真空泵:TRP-24,抽速6L/s,合资品牌,抽速快,低噪音;前级/旁路阀:DN40,气动挡板阀;真空测量:“两低一高”数显复合真空计。6.工作气路系统:质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;N2,20sccm;电磁截止阀:Φ6mm;混气管:三进一出。7.气路系统:电接点压力表,用于气体压力保护报警;气排,用于各阀门之间分气使用。8.电气控制系统:1)采用PLC+触摸屏控制系统,可实现自动一键式抽真空;2)控制内容:机械泵、前级阀的开与关;分子泵显示及开关控制;真空计参数显示及控制;基片台转速控制等;3)安全保护报警系统:在缺水、水压过低情况下的报警系统;完善的逻辑程序互锁保护系统。9.含低噪音Ⅰ型空压机一台;含冷却循环水机一台。10.机架控制柜:机架和控制柜一体化设计,碳钢制作,底下配脚轮,方便移动、定位。

标签: 磁控溅射 真空

0人觉得有用

招标
业主

-

关注我们可获得更多采购需求

关注
相关推荐
 
查看详情 免费咨询

最近搜索

热门搜索