三靶射频磁控镀膜仪(GY202208816)成交结果公告
三靶射频磁控镀膜仪(GY202208816)成交结果公告
项目名称 | 三靶射频磁控镀膜仪 | 项目编号 | GY********* |
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公告开始日期 | 167*****47000 | 公告截止日期 | 167*****00000 |
采购单位 | 山东大学 | 付款方式 | 货到付款 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 合同签订后60天内 |
预 算 | ******.0 | ||
收货地址 | 山东大学中心校区环境楼408 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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三靶射频磁控镀膜仪 | 1 | 套 | 其他特种设备 |
品牌 | 沈阳科晶 |
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型号 | VTC-600-3HD-1000 |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | ******.0 |
技术参数及配置要求 | 一、功能指标1.具备3个靶位,一次抽真空可最多溅射3种靶材;2.具备直流溅射与射频溅射功能,可以溅射金、银等金属靶材,也可以溅射陶瓷等绝缘靶材;3.工作过程全自动控制,自动实现进气气路控制、真空管路控制、溅射参数控制、加热控制、样品台转动控制等功能;4.具备实时膜厚监测功能(石英晶振片);5.触控屏交互界面,可以设置工作参数、显示运行状态与参数;6.样品台具备可调速旋转功能与可调速加热功能。二、技术指标1.靶枪数量:3个(两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜)2.直流溅射功率:≥300 W3.射频溅射功率:≥300 W4.靶枪冷却方式:水冷5.靶材规格:Φ2",厚度0.1-5 mm6.样品台尺寸:≥Φ70 mm7.样品台加热范围:室温~1000 ℃8.样品台转速:1 rpm - 20 rpm可调9.真空室规格:≥Φ300×330 mm10.真空腔室开启方式:上开盖11.极限真空度:7.4E-5 Pa12.真空系统:机械泵(VRD-16) + 涡轮分子泵(FF-100/150)13.恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3 Pa≤30 min(系统短时间暴露大气)14.进气系统:2路质量流量计(1路氧气100scc + 1路氩气200scc)15.膜厚检测:石英晶振片16.真空检测:电阻规+电离规17.安装条件:1)水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)2)电:AC 220 V,50 Hz,必须有良好接地3)气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上,自备氩气气瓶及减压阀)4)工作台要求:尺寸1500 mm×600 mm×700 mm,承重200 kg以上5)通风装置:需要良好通风三、配置1.溅射主机一台;2.真空检测系统1套;3.直流电源控制系统1套;4.射频电源控制系统2套;5.膜厚监测仪系统1套;6.分子泵(德国进口或者国产大抽速)1台;7.水冷机1台;8.聚酯PU管(?6 mm)4 m。四、售后服务1.整机质保1年;2.到货后负责设备上楼;3.到货验收后工程师免费上门提供设备调试与培训服务。 |
售后服务 | 服务网点:不限;质保期限:1年;响应期限:报修后48小时; |
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