三靶射频磁控镀膜仪(GY202208816)成交结果公告

三靶射频磁控镀膜仪(GY202208816)成交结果公告

项目名称三靶射频磁控镀膜仪项目编号GY*********
公告开始日期167*****47000公告截止日期167*****00000
采购单位山东大学付款方式货到付款
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后3个工作日内到货时间要求合同签订后60天内
预 算******.0
收货地址山东大学中心校区环境楼408
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
三靶射频磁控镀膜仪1其他特种设备
品牌沈阳科晶
型号VTC-600-3HD-1000
品牌2
型号
品牌3
型号
预算******.0
技术参数及配置要求一、功能指标1.具备3个靶位,一次抽真空可最多溅射3种靶材;2.具备直流溅射与射频溅射功能,可以溅射金、银等金属靶材,也可以溅射陶瓷等绝缘靶材;3.工作过程全自动控制,自动实现进气气路控制、真空管路控制、溅射参数控制、加热控制、样品台转动控制等功能;4.具备实时膜厚监测功能(石英晶振片);5.触控屏交互界面,可以设置工作参数、显示运行状态与参数;6.样品台具备可调速旋转功能与可调速加热功能。二、技术指标1.靶枪数量:3个(两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜)2.直流溅射功率:≥300 W3.射频溅射功率:≥300 W4.靶枪冷却方式:水冷5.靶材规格:Φ2",厚度0.1-5 mm6.样品台尺寸:≥Φ70 mm7.样品台加热范围:室温~1000 ℃8.样品台转速:1 rpm - 20 rpm可调9.真空室规格:≥Φ300×330 mm10.真空腔室开启方式:上开盖11.极限真空度:7.4E-5 Pa12.真空系统:机械泵(VRD-16) + 涡轮分子泵(FF-100/150)13.恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3 Pa≤30 min(系统短时间暴露大气)14.进气系统:2路质量流量计(1路氧气100scc + 1路氩气200scc)15.膜厚检测:石英晶振片16.真空检测:电阻规+电离规17.安装条件:1)水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)2)电:AC 220 V,50 Hz,必须有良好接地3)气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上,自备氩气气瓶及减压阀)4)工作台要求:尺寸1500 mm×600 mm×700 mm,承重200 kg以上5)通风装置:需要良好通风三、配置1.溅射主机一台;2.真空检测系统1套;3.直流电源控制系统1套;4.射频电源控制系统2套;5.膜厚监测仪系统1套;6.分子泵(德国进口或者国产大抽速)1台;7.水冷机1台;8.聚酯PU管(?6 mm)4 m。四、售后服务1.整机质保1年;2.到货后负责设备上楼;3.到货验收后工程师免费上门提供设备调试与培训服务。
售后服务服务网点:不限;质保期限:1年;响应期限:报修后48小时;

信息来源:https://www.yuncaitong.cn/publish/2022/12/14/20LBMZF50QX0IEMW.shtml

标签: 射频 镀膜

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