高真空多靶磁控溅射镀膜机(GY202210711)自购结果公示
高真空多靶磁控溅射镀膜机(GY202210711)自购结果公示
| 供应商： | 北京泰科诺科技有限公司 |
|---|---|
| 中标金额： | ****** |
| 公示开始日期 | 2022-12-24 | 公示截止日期 | 2022-12-25 11:33:56 |
|---|---|---|---|
| 采购单位 | 晶体材料研究所 | 付款方式 | 预付款30%，货到验收合格后付清尾款 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | ||
| 收货地址 | 山东大学中心校区功能晶体材料楼二楼超净间 | ||
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 |
|---|---|---|
| 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 |
| 品牌 | 泰科诺 | 规格型号 | JCP500 |
|---|---|---|---|
| 技术参数 | 1.真空腔室，Ф500×H420mm，304 优质不锈钢，前开门结构；2.真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合高真空系统，数显复合真空计；3.真空极限：6.0×10-5Pa（设备空载抽真空24 小时内）；4.漏率：设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压停泵12 小时候后，真空≤10Pa；5.抽速(空载）从大气抽至5.0×10-3Pa≤20min；6.样品工装尺寸大盘约Φ400mm，可摆放Φ12mm，高20mm 石英棒约30 支；7.样品架旋转速度公转速度：0～5 转/分钟，自转速度以实际设计为准；8.溅射靶配置2支2英寸永磁共焦磁控溅射靶，腔室左右两侧各1支，与样品同一高度；磁控靶RF、MF、DC兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板结构；9.工作方式采用磁控靶从侧面溅射镀膜；10.控制方式PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统；11.报警及保护对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；14.占地(主机）L1900×W800×H1900(mm)；15.含2英寸，厚度为2mm的纯金靶材一件。 | ||
| 售后服务 | 服务网点:当地;质保期限:1年;响应期限:报修后48小时; | ||
资产与实验室管理部
2022-12-24
|
招标
|
- 关注我们可获得更多采购需求 |
关注 |
最近搜索
无
热门搜索
无
