天津理工大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统_第1包中标结果

天津理工大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统_第1包中标结果


天津理工大学采购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统项目_第1包(项目编号:SCGP-2022-H-1036)合同公告

一、合同编号 :津采同〔2023〕******
二、合同名称 :采购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统项目_第1包
三、项目编号 :SCGP-2022-H-1036
四、项目名称 :采购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统项目_第1包
五、合同主体
采购人(甲方):天津理工大学
地址 :宾水西道391号
联 系 方 式 :********
供应商(乙方):[天津仪恒达科技有限公司]
地址 :[天津市和平区拉萨道16号3012室]
联 系 方 式 :[152*****868]
六、合同主要信息
主要标的名称:采购高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统项目_第1包
规格型号:PVD400
主要标的数量:1
主要标的单价:153.92(万元)
合同金额: 153.92(万元)
履约期限、地点等简要信息:90日,采购人指定地点
采购方式:竞争性磋商
供应商账户名称:天津仪恒达科技有限公司
供应商账号:271*****0118
供应商账户开户行:中国银行股份有限公司天津西康路支行
统一社会信用代码:911*****064******R
企业办公电话:152*****868
七、合同签订日期:2023年03月24日
八、合同公告日期:2023年04月23日
九、其他补充事宜:
十、附件下载(如出现点击后无法访问的情况,复制地址栏链接后重新访问即可):

天津理工大学

2023年04月23日


联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 薄膜沉积系统 磁控溅射 理工大学

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