高真空多功能薄膜沉积系统中标结果

招 标 正 文
 

高真空多功能薄膜沉积系统中标结果

竞价结果详细 (CB***************)----哈尔滨工业大学
申购单类型竞价类申购主题高真空多功能薄膜沉积系统
发布中标时间：2015-09-21 09:06经费科目纵向科研使用币种人民币是否含税是
申购备注
中标供应商设备名称品牌厂商型号规格配置是否标配申购数量中标单价售后服务报价说明中标理由
沈阳新蓝天真空技术有限公司高真空多功能薄膜沉积系统**设备用途：在高真空环境下，对不同的基体材料进行电子束蒸发和磁控溅射镀膜。主要用于氧化物、陶瓷和各种高熔点金属材料的电子束蒸发和磁控溅射。 2、腔室尺寸：电子束蒸发腔室：真空室尺寸Φ500×H500（mm）筒式单层真空室，在真空室壁上焊接水冷槽，通过循环水对真空室进行冷却。磁控溅射腔室：磁控溅射腔室坐在蒸发室的右边，真空室尺寸Φ450×H450（mm）筒式单层真空室，大法兰盖电动升降。 3、系统真空性能指标： 3.1电子束蒸发室极限真空：连续烘烤36小时（≤150℃）连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。 3.2磁控溅射室极限真空：连续烘烤36小时（≤120℃）连续抽气其极限真空≤1.0×10-4Pa。 3.3蒸发室抽气速率：从大气开始抽气，在≤40分钟内，真空度≤8×10-4Pa 3.4溅射室抽气速率：从大气开始抽气，在≤40分钟内，真空度≤8×10-3Pa。 3.5蒸发室漏率：停泵关机12小时后，测其真空度≤5Pa。 3.6溅射室漏率：停泵关机12小时后，测其真空度≤5Pa。 4、电子枪主要技术参数：电子枪功率6KW，电子束偏转角270？，束流在0-600mA范围内可调，四穴水冷铜坩埚，坩埚容积为20ml，深度为22mm，可电动换位，遥控盒手持操作，枪电源高压灭弧自动复位，冷却水：流量≥10L/min，水压≥0.15Mpa， 入口水温≤25℃。 5、样品台：蒸发室和磁控溅射室的样品台为同一结构，具有同样功能，可放样品尺寸：100×100（mm），加热温度：室温~300℃，温度可控可调，样品与干锅之间的距离300mm±30可调，样品与磁控靶之间距离100mm±30可调；样品转动速度0~20r/min可调。 6、磁控靶：2支Φ4"永磁靶，RF&DC兼容；均设置电动挡板，在暴露大气时2支靶可调整相对基片的距离和角度。 7、电源：电子枪电源，样品温控电源，控制电源，照明烘烤电源，中频电源，直流电源。 8、进气系统：MFC质量流量控制器：两路进气，O2:0~50sccm；Ar：0~100sccm。 是1391,000.0按行业标准提供服务（本企业属于沈阳市高新技术企业，在真空设备制造领域也有较好声誉。对本次投标项目的机电设计、加工以及装配等做出承诺，我公司所提供的货物是全新的、未使用过的。用户若发现货物的数量、质量、规格与合同不符；或者在质量保证期内，证实货物存在缺陷，包括潜在的缺陷或使用不符合要求的材料等，我公司愿承担责任，在接到用户通知后48小时内做出响应，4天内派人到现场免费维修或更换有缺陷的货物或部件。1．在一年质保期内，无偿维修并更换非人为损坏的零配件 2．质保期后，只收取维修成本费 3．因操作维修不当，造成机件、配件损坏或使用多年后，需更换零配件及进行大修时，我公司仍提供服务，使设备能继续运行）总价最低原则


联系人：郝工
电话：010-68960698
邮箱：1049263697@qq.com

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