磁控溅射自购结果公示

磁控溅射自购结果公示

磁控溅射(GY*********)自购结果公示
发布时间:2023-06-26

该项目经自行采购程序,允许自购:

供应商: 北京微纳真空技术有限公司
中标金额: ******
公示开始日期 2023-06-26 公示截止日期 2023-06-27 17:46:59
采购单位 微电子学院 付款方式 预付50%,验收合格后付50%
签约时间要求 到货时间要求
收货地址 山东大学
采购清单1
采购物品 采购数量 计量单位
多靶磁控溅射镀膜设备 1
品牌 北京微纳真空技术有限公司 规格型号 VJC-400
技术参数 1) 真空腔室:Φ400×H450mm; 2) ★真空极限:优于5.0×10-5Pa; 3) ★抽速:抽至10-4Pa≤15min; 4) 基片台:最大可镀4英寸(Φ100mm)1片或者均布其它规格小片;基片台配挡板、旋转,加热(预留水冷); 5) 磁控靶及电源:3只3inch圆形平面靶,3台电源,直流1台/射频2台; 6) 辅助溅射:可选配负偏压电源(预留); 7) 气路系统:三路气体(Ar/O2/N2)MFC控制,量程范围为0~50SCCM\0~20SCCM \0~20SCCM; 8) 控制方式:PLC手自动控制,触摸屏操作; 9) ★特别定制:掩膜板一块。
售后服务 服务网点:外地;质保期限:3年;响应期限:报修后2小时;


资产与实验室管理部


2023-06-26

标签: 磁控溅射

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