高通量大面积磁控溅射沉积系统项目结果公示

高通量大面积磁控溅射沉积系统项目结果公示

一、项目名称

高通量大面积磁控溅射沉积系统

二、项目编号

2023-YK01-W1124

三、评审结果

经评审,推荐供应商排名如下:

第一名:北京创世威纳科技有限公司

第二名:北京中科科美科技股份有限公司

第三名:四川宇天真空科技有限公司

四、预中标供应商

经评审委员会推荐预中标供应商如下:

供应商名称:北京创世威纳科技有限公司

中标金额:196.00

五、公示时限

即日起至2023年7月17日。

五、提出异议

供应商对预中标结果如有异议,应当在本公示期限内以书面形式提出质疑。

对积极参与本次采购活动的供应商深表感谢,希望今后继续保持合作。

七、联系人及联系方式

联 系 人:刘芳、陈园

办公电话:0731-********-650

移动电话:188*****293185*****909

传 真:0731-********

地 址:长沙市芙蓉区万家丽北路439号浏阳河畔小区1栋5楼526室

八、监督

采购和资产管理处:0731-********/545

采购中心:0731-****************

传真: 0731-********

邮箱:cgzx@nudt.edu.cn


,长沙市,芙蓉区,四川,长沙,0731-

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 沉积系统 磁控溅射 高通量

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