无掩膜紫外光刻机成交结果公告
无掩膜紫外光刻机成交结果公告
| 项目名称 | 无掩膜紫外光刻机 | 项目编号 | A-WZBX0949 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 171*****41000 | 公告截止日期 | 171*****00000 |
| 采购单位 | 厦门大学 | 付款方式 | 无 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 签约后30个工作日内 |
| 预 算 | ******.0 | ||
| 收货地址 | 物理楼114室 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 无掩膜紫外光刻机 | 1 | 台 | 无 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | ******.0 |
| 技术参数及配置要求 | 1.★光刻精度：至少支持两个光刻镜头：光刻镜头1：最小线宽≤1.2 μm，工作距离≥19 mm；光刻镜头2：最小线宽≤0.8 μm，工作距离≥12 mm2.★具备交互式套刻指引功能3.▲具备图像识别对焦功能4.★支持光刻镜头电动切换5.曝光波长：405 nm6.★数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um7.显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性8.▲样品厚度：≥8 mm9.▲样品尺寸：≥80 mm *80 mm10.★支持样品电动旋转11.样品吸附：支持样品吸附12.★设备软件： 原位光绘功能物像绑定功能成像拼接功能畸变矫正功能13.画图软件：支持阵列画图、套刻画图 |
| 售后服务 | 商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;1年免费质保期; |
标签: 紫外光刻机
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