物理电子工程学院PVD500磁控溅射薄膜沉积设备采购结果公告

物理电子工程学院PVD500磁控溅射薄膜沉积设备采购结果公告

中标信息

成交供应商: 沈阳起航科技有限公司
选择理由: 满足设备参数要求,且报价最低。
质疑投诉说明: 如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至国有资产与实验室管理处采购管理科,逾期不予受理。
项目名称 物理电子工程学院PVD500磁控溅射薄膜沉积设备采购 项目编号 CG********
项目编号 CG********
公告发布日期 2024/06/11 09:46 报价截止时间 2024/06/16 09:46
报价截止时间 2024/06/16 09:46
采购单位 山西大学 付款条款 合同生效后发货前预付50%,货到验收合格后支付50%
付款条款 合同生效后发货前预付50%,货到验收合格后支付50%
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务 是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算 ¥193,000.00 成交金额 ¥191,000.00
成交金额 ¥191,000.00
送货/施工/服务期限 合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地址 山西省太原市小店区南内环街16号 太原第一实验室二层千级实验室二
付款条款 合同生效后发货前预付50%,货到验收合格后支付50%
其他说明 1、货物服务类竞价项目,进口产品收取成交金额3%的履约保证金,特殊情况另行约定。
采购内容 是否进口 计量单位 采购数量 售后服务 分项报价
PVD500磁控溅射薄膜沉积设备 1 质保1年。 ¥191,000.00
参考品牌及型号 不限定品牌
技术参数要求 PVD500磁控溅射薄膜沉积设备。设备极限真空度:≤5x10-5Pa(经烘烤除气后);30分钟可达到5x10-4Pa;5个2英寸溅射靶枪,镀膜时工作真空度:0.1~10Pa;加热方式:电阻丝加热,加热温度范围:室温-800℃,连续可调,精度±1°C。
,山西,太原市,小店区,太原,沈阳

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 薄膜沉积 磁控溅射

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