无掩模光刻机网上比选采购评审结果公示
无掩模光刻机网上比选采购评审结果公示
| 项目名称 | 无掩模光刻机 | 项目编号 | 招设2024C***** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 171*****33000 | 公告截止日期 | 171*****00000 |
| 采购单位 | 上海交通大学 | 付款方式 | 100%L/C，90%即期，10%验收合格后支付 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 签订合同后3个月内 |
| 预 算 | ******.0 | ||
| 收货地址 | CIP上海交通大学 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 无掩模光刻机 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | ******.0 |
| 技术参数及配置要求 | Light？source Exposure:？385？nm;？alignment:？590？nmMinimum？feature？size 1.5？μmAlignment？accuracy？(for？1cm*？printed？area) 2μmMaximum？exposure？area 70×70？mm? 1μm？110x110？mm"Substrate？size Up？to？4"wafers Up？to？5"？square？masksWriting？speed 77？mm{"/min 220？mm*/minSystem？dimensions W:(52？cm);？D:？(52？cm);H:？(69？cm) |
| 售后服务 | 无 |
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