多样品盘直靶磁控溅射系统自购结果公示
多样品盘直靶磁控溅射系统自购结果公示
供应商: | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
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中标金额: | ****** |
公示开始日期 | 2024-07-12 | 公示截止日期 | 2024-07-13 10:44:40 |
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采购单位 | 集成电路学院 | 付款方式 | 货到验收合格后付款 |
签约时间要求 | 到货时间要求 | ||
收货地址 | 山东省济南市高新区舜华路1500号山东大学软件园校区教研楼3B-B104 |
采购物品 | 采购数量 | 计量单位 |
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多样品盘直靶磁控溅射系统 | 1 | 台 |
品牌 | 中国科学院沈阳科学仪器 | 规格型号 | JGP560 |
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技术参数 | 1.反应室为单室,不锈钢真空室尺寸不小于40 cm×40 cm,配不锈钢防污染内衬。可内烘烤到100~150℃。 2.工艺室真空:真空室极限真空优于10-5Pa(经烘烤除气后),从大气抽真空到5×10-4Pa小于30分钟。 3.至少为四英寸片可旋转样品盘,带有电控气动挡板。四英寸范围内沉积均匀性≤±5%;批次间重复性≤±3%。 4. 4个4英寸溅射源靶枪,靶枪或工件盘距离可调。每个靶枪带一个独立的电控气动挡板,样品盘可连续自转。 5.采用3台质量流量控制器控制3 路气体进气,气体流量范围0-200 sccm可调。另外额外需要破真空的气路一路。 6.1个直流源,输出功率0-500 W;一个射频电源且自动匹配,输出功率0-500 W。带转换开关切换直流和射频。 7.加热:普通可旋转样品盘,转速可调,最大加热温度可达:800°C,精度±1%。 8.真空计探测器寿命长于2年,测量范围:1×105Pa-1×10-9Pa。 9.兼具全自动、手动、维修控制模式。 10.提供彩色可视图形化全自动控制系统,软件设计界面简易友好,权限分级明确,有效防止误操作。工艺程序可预存,参数有记录。 | ||
售后服务 | 服务网点:当地;质保期限:1年;响应期限:报修后12小时; |
资产与实验室管理部
2024-07-12
标签: 磁控溅射
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