无掩模光刻机网上比选采购评审结果公示

无掩模光刻机网上比选采购评审结果公示

项目名称无掩模光刻机项目编号招设2024C*****
公告开始日期172*****50000公告截止日期172*****00000
采购单位上海交通大学付款方式100%L/C,90%即期,10%验收合格后支付
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求签订合同后3个月内
预 算******.0
收货地址上海交通大学指定地点
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
无掩模光刻机1电子工业生产设备
品牌
型号
品牌2
型号
品牌3
型号
预算******.0
技术参数及配置要求曝光光源:385nm;对准光源:590nm最小精度:1.5μm对准精度:2μm最大曝光区域:70×70mm基材上限4"英寸晶圆,5"英寸见方光罩读写速率:77mm/min至220mm/min系统尺寸:宽:(52cm);长:(52cm);高:(69cm)
售后服务服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后4小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年;

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 光刻机 评审

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