高真空磁控溅射薄膜沉积系统-二次中标公告

高真空磁控溅射薄膜沉积系统-二次中标公告

某部委托中技国际招标有限公司,对其高真空磁控溅射薄膜沉积系统-二次进行招标工作,招标编号:2024QY51ZXGK0406。本项目于2024年9月9日在北京进行了开评标工作,经评标委员会评审,现将本项目评审结果公示如下:

1. 招标人名称:某部

2. 招标代理机构:中技国际招标有限公司

3. 项目名称:高真空磁控溅射薄膜沉积系统-二次

4. 评审结果排序:

第1名: 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

第2名: 北方高能(北京)真空技术有限公司

第3名: 沈阳鹏程真空技术有限责任公司

5. 本项目公示期为 2024年9月12日至2024年9月14日

6. 如有异议请在公示期内向招标代理机构提出,书面质疑应由法定代表人签字并加盖公章,并将书面质疑函指定专人送达代理机构。书面质疑主要包括下列内容:

(1) 质疑的采购项目名称和项目编号。

(2) 质疑人和被质疑人的名称,质疑人的地址、联系方式等。

(3) 具体的质疑事项、事实依据及相关证明材料。

(4) 提起质疑的日期。

7. 联系方法:

招标代理机构:中技国际招标有限公司

单位地址:北京市丰台区西营街1号院 2区1号楼(通用时代中心C座)

邮政编码:******

联系人:王云骢 马新峰 程欣欣 孔令时

电 话:010-********

邮 箱:maxinfeng@cgci.gt.cn

特此公告。




,北京市,丰台区,沈阳,中国科学院

联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 薄膜沉积系统 磁控溅射 真空

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