低应力高致密薄膜沉积设备ICPCVD中标结果公告1
低应力高致密薄膜沉积设备ICPCVD中标结果公告1
【中国国际招标网】
项目名称：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标项目编号：0664-2440SUMECK10/02
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：苏美达国际技术贸易有限公司
招标人：苏州第三代半导体技术国创中心
开标时间：2024-10-22 14:00
公示时间：2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59
中标结果公告时间：2024-11-05 18:55
中标人：Shintec Equipment Co., Limited
制造商：Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited， trading as Oxford Instruments Plasma Technology
制造商国家或地区：英国
|
招标
|
苏美达国际技术贸易有限公司 关注我们可获得更多采购需求 |
关注 |
最近搜索
无
热门搜索
无
