小型磁控溅射镀膜机竞价结果
小型磁控溅射镀膜机竞价结果
申购单主题: | 小型磁控溅射镀膜机 | 申购单位: | 微电子科学与技术学院 | 申购人: | 马雨飞 |
报价类型: | 国内含税价 | 使用币种: | 人民币 | 公示时间: | 2024-11-06 21:05:14 |
申购备注: |
设备名称 | 品牌厂商 | 型号 | 数量 | 售后服务 | ||
小型磁控溅射镀膜机 | PD | 200C | 1 | |||
规格 | ||||||
1.真空镀膜室:304不锈钢材料,圆柱式,门上配有观察窗;镀膜室内净尺寸约为:300*300*H300mm。2.真空系统:机械泵+脂润滑分子泵,极限真空:优于8*10-5 Pa;工作真空8*10-4pa以下,抽真空时间少于35分钟。3.真空极限:优于8*10-5 Pa。4.旋转加热基片台:承载最大直径75mm基片;基片台磁流体密封,电机驱动基片台旋转,旋转速度0-20转/分钟可调;配挡板。样品台加热温度室温-350℃。5.均匀性:75mm直径范围内不均匀性≤±5%。6.控制方式:西门子PLC+西门子触摸屏手自动控制系统。7.直流溅射电源:功率500W。 |
中标供应商 | 单价(元) | 初选理由 |
武汉普迪真空科技有限公司 | ******.0 |
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