磁控溅射系统成交结果公告
磁控溅射系统成交结果公告
| 项目名称 | 磁控溅射系统 | 项目编号 | HITSZWJ****** |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 173*****61000 | 公告截止日期 | 173*****00000 |
| 采购单位 | 哈尔滨工业大学（深圳） | 付款方式 | 合同签订后15个工作日内预付70%，设备到货验收合格后30% |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后3个工作日内 | 到货时间要求 | 签约后90个工作日内 |
| 预 算 | ******.0 | ||
| 收货地址 | 哈尔滨工业大学（深圳） | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 磁控溅射系统 | 1 | 台 | 无 |
| 品牌 | 普迪真空 |
|---|---|
| 型号 | *** |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | ******.0 |
| 技术参数及配置要求 | 1.镀膜室极限真空：≤8×10-6 Pa； 2.抽速：大气后抽气至 8×10-4 Pa≤30min； 3.系统漏率：≤2×10-8 Pa.l/S(以氦质谱检漏仪测试指标考核）； 4.系统保压：系统抽至高真空后停泵关机保压12小时后真空度≤1 Pa; 5.基片加热：衬底最高加热温度800 ℃； 6.溅射尺寸：衬底基片最大6英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ45mm、Φ30mm，以及小尺寸方形片。基片旋转速度：0～30 rpm连续可调； 7.溅射靶枪共4套，其中顶部垂直安装1套2 inch靶枪，3套3 inch靶枪倾斜安装，实现共焦溅射； 8.均匀性：6英寸基片镀膜区均匀性优于±5%； 9.气体流量控制：3路进气，氩气氧气氮气分别为200/50/50 sccm。 |
| 售后服务 | 无 |
标签: 磁控溅射
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