晶合12吋晶圆制造基地12吋芯片退火处理系统与金属及硅化物薄膜沉积系统(1)中标结果

晶合12吋晶圆制造基地12吋芯片退火处理系统与金属及硅化物薄膜沉积系统(1)中标结果

项目名称:合肥晶合12吋晶圆制造基地项目12吋芯片退火处理系统与金属及硅化物薄膜沉积系统
项目编号:****-********3060/01
招标范围:快速退火处理系统(Lamp)1台浅沟槽隔离及金属介电层的二氧化硅薄膜沉积?之高密度电浆系统(STI/IMD HDP)2台氮氧化硅及氮化硅薄膜沉积之电浆增强化学沉积系统(SiON/SiN)3台钨金属栓塞之化学气相沉积系统1台二氧化硅薄膜沉积之电浆增强化学沉积系统(PETEOS)1台非晶质碳薄膜沉积之电浆增强化学沉积系统(Carbon)1台二氧化硅可参杂硼磷薄膜沉积之半大气压化学沉积系统(BP TEOS/O3 TEOS)2台氮化钛之化学气相沉积系统1台铝金属之物理气相沉积系统1台钛金属与氮化钛之物理气相沉积系统1台钛与氮化钛之金属粘着层的物理气相沉积系统1台钴金属之物理气相沉积系统1台
招标机构:
招标人:合肥晶合集成电路有限公司
开标时间:2016-12-01 10:00
公示时间:2016-12-02 11:25 - 2016-12-05 23:59
中标结果公告时间:2016-12-06 14:06
中标人:Applied?Materials?South?East?Asia?Pte.?Ltd.
制造商:Applied Materials South East Asia Pte. Ltd.
制造商国家或地区:美国


联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 沉积系统 薄膜 金属

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