序号

信息内容

375

项目名称

重庆超硅半导体极大规模集成电路用8英寸/12英寸抛光硅片及其延伸产品项目（一期工程）

建设单位

重庆超硅半导体有限公司

建设地点

重庆两江新区云汉大道5号附188号

验收监测/

调查报告编制单位

重庆市生态环境监测中心

公示期

2017年8月1日—2017年8月7日

一、项目概况

一期工程新建拉晶厂房、硅片生产厂房、动力厂房、生产支持厂房、供应商生产厂房、硅烷站、化学品库、辅助用房、氢气站及配套的环保工程。项目生产工艺主要有拉晶单元和硅片生产单元。年产78万片抛光硅片产品，其中8英寸抛光硅片70万片，12英寸抛光硅片8万片。一期工程暂不生产110万片8英寸硅片（包括50万片8英寸抛光硅片、20万片8英寸n型外延片和40万片8英寸p型外延片）和172万片12英寸硅片（包括112万片12英寸抛光硅片、20万片12英寸n型外延片和40万片12英寸p型外延片）。

二、环保措施落实情况

（一）废气排放及治理。

①拉晶厂房酸性废气

拉晶厂房酸性废气主要来源于去片检验工段进行的试验检测废气。拉晶厂房酸性废气经1套酸性废气喷淋塔处理后由1根26m高排气筒排放。

②硅片生产厂房酸性废气

硅片生产厂房酸性废气主要来源于对硅片进行酸腐蚀产生的废气、边缘抛光后清洗酸性废气、预清洗酸性废气、粗清洗废气、终清洗酸性废气。硅片生产厂房酸性废气经一级碱液喷淋塔处理后由1根24m高排气筒排放。

③碱性废气

项目在粗清洗工序采用氨水、双氧水、水的混合液对硅片进行浸泡清洗时将挥发粗清洗碱性废气。经1套碱性废气处理系统（酸液喷淋塔）处理后由1根24m高排气筒排放。

④硅烷废气

项目在退火炉内采用硅烷、氮气、氢气进行退火工艺，未反应的SiH4作为硅烷废气排放。经1套水喷淋装置处理后由1根24m高排气筒排放

⑤热废气

将拉晶厂房、硅片生产厂房、拉晶炉内的热废气统一收集，拉晶厂房热废气收集后经2根16m高排气筒（1用1备）排放，拉晶炉废气收集后经2根16m高排气筒（1用1备）排放，硅片生产厂房热废气收集后经2根20m高排气筒（1用1备）排放。

⑥食堂油烟

厂内设置一座食堂，食堂采用天然气作燃料，食堂厨房烹饪时产生厨房油烟，食堂油烟经油烟净化装置处理后屋顶排放。

（二）废水排放及治理。

项目废水主要包括生产废水、生活污水和循环冷却系统排污水。生产废水主要来源于研磨废水、高浓度废水、含氟废水、酸碱废水等。全厂设置生产废水排放口1个，生活污水排放口2个，清下水排放口（即雨水排放口）2个。

研磨废水来源于滚圆机废水、带锯床废水、线切割后清洗废水、倒角废水、边缘抛光废水、抛光废水，经絮凝沉淀预处理（处理能力：1722m3/d）后进入中和处理系统，经中和调节后同预处理后的厂房区域生活污水一起排放。

高浓度废水来源于线切割机清洗废水、腐蚀清洗高浓度废水，经中和+氧化还原+消化+脱窒+曝气预处理（处理能力：323m3/d）后进入中和处理系统，经中和调节后同处理后的厂房区域生活污水一起排放。

含氟废水来源于腐蚀清洗含氟废水、预清洗含氟废水、终清洗含氟废水，经中和+絮凝+沉淀预处理（处理能力：653 m3/d）后进入中和处理系统，经中和调节后同预处理后的厂房区域生活污水一起排放。

酸碱废水来源于边缘抛光后清洗废水、预清洗酸碱废水、粗清洗废水、终清洗酸碱废水、废气处理系统酸碱废气，进入中和处理系统（处理能力：966 m3/d）经中和调节（处理能力：3664 m3/d）后同处理后的厂房区域生活污水一起排放。

食堂废水、拉晶厂房生活污水经1#生化池处理后排放。

办公楼生活污水经2#生化池处理后排放。

厂房区域生活污水经3#生化池处理后同处理后的生产废水一同排放。生化处理能力共43m3/d。

纯水站RO浓水、循环冷却系统排污水清下水，直排。

（三）噪声治理。

项目噪声源主要有风机、空压机、冷却塔、各类泵等机械设备噪声。选用低噪声设备，合理布局，并采用减振、隔震等措施来降噪。

（四）固废治理。

硅片检验废混合酸、硅片检验废硅片、废胶水、废切削液、废碱腐蚀液、废酸腐蚀液、含氟废水处理污泥、高浓度废水处理污泥、化学品包装材料等危险废物，交由有危险废物处置资质的单位处理；废石英坩埚与废石墨加热器、晶棒头尾、废抛光液、产品废包装材料、废石墨基座、废手套、研磨废水处理单元污泥等交由厂家回收利用或外卖综合利用；生活垃圾交由环卫部门处理。