等离子体增强方式氮化硅/二氧化硅薄膜化学气相沉积设备(高介电常数工艺段)中标结果

等离子体增强方式氮化硅/二氧化硅薄膜化学气相沉积设备(高介电常数工艺段)中标结果

项目名称:上海华力集成电路制造有限公司等离子体增强方式氮化硅/二氧化硅薄膜化学气相沉积设备(高介电常数工艺段)
项目编号:****-********4773/04
招标范围:等离子体增强方式氮化硅/二氧化硅薄膜化学气相沉积设备(高介电常数工艺段)
招标机构:上海机电设备招标有限公司
招标人:上海华力集成电路制造有限公司
开标时间:2018-01-30 09:30
公示时间:2018-01-31 17:18 - 2018-02-05 23:59
中标结果公告时间:2018-02-22 00:22
中标人:Lam Research International Sarl
制造商:Lam Research International Sarl
制造商国家或地区:瑞士


联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 化学气相沉积 薄膜 二氧化硅

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