机械与运载工程学院的原子层沉积设备拟进行单一来源采购，现将有关事项公告如下：

一、采购项目名称

原子层沉积设备

二、拟采购货物的说明及预算

（一）拟采购货物的说明

原子层沉积设备包含：反应腔体、前驱体传载系统、真空获得系统、尾气处理系统、自动控制系统各一套。具体设备参数和功能如下：

1)沉积均匀性：采用4寸样品，沉积100nm，片内测试5个点，要求单片内不均匀性≤2%，批次间均匀性≤3%；

2)快速沉积：常规连续载气流动模式下，以三甲基铝（TMA）和水为反应前驱体在200摄氏度下沉积氧化铝为例，原子层沉积（ALD）单循时间≤3秒，反应前驱体脉冲时间≤100毫秒，沉积100纳米薄膜总耗时小于1小时；

3)低温沉积：可实现60摄氏度甚至以下温度条件下沉积Al2O3和TiO2，在保证薄膜质量的条件下同时要求前驱体脉冲小于500毫秒，以保证最低源耗，及最长的设备维护周期；

4）压力调节停流沉积模式：实现高深宽比结构保形纳米薄膜沉积；要求沉积过程中反应腔体压力及反应时间可根据基底结构来调节和设定；要求该沉积模式下反应腔体前后端同时具备高纯净Swagelok阀门，以保证最小密闭空间、最短反应时间、最小反应源耗；

5）独立反应源管路：4路完全独立反应源管路，以确保前驱体不相互污染，其中3条常温管路，1条管路为加热管路，温度可加热至150摄氏度；前驱体脉冲精度控制至1毫秒；

6)腔体尺寸：腔体最大可沉积8英寸晶圆，标准高度为6mm，同时提供一个客户定制的15 mm高度腔体；

7）腔体加热温度：基片最大加热温度300摄氏度；

8）反应源及源瓶：99.9% TiCl4反应源100g；99.9%三甲基铝20g；200 ml反应源钢瓶1个，50ml反应源钢瓶3个；

9)高比表面积金属热吸附阱与分子筛冷吸附阱双重保护真空获得系统；

10）高性能化学防腐双级真空泵，泵体内部材料具有很高的耐腐蚀性，抽速不小于30 m3/h，本底真空小于1 Pa；

11）设备附件升级：预留3路完全独立的前驱体管路接口供客户后期升级；预留低饱和蒸汽压前驱体缓冲腔接口；臭氧反应源接口。

（二）预算

预算金额：?328000

三、采用单一来源采购方式的原因及相关说明

东莞纳锋微电子装备有限公司提供的NCE-200R型原子层沉积设备是全球唯一能够同时满足上述技术参数指标的设备，符合《中华人民共和国政府采购法》第三章第三十一条第一款之规定（只能从唯一供应商处采购的），故申请采用单一来源方式采购。

四、拟定的唯一供应商名称、地址及联系方式、邮箱等

供应商名称：东莞纳锋微电子装备有限公司

供应商地址：广东省东莞市松山湖高薪技术开发区大学创新城D3栋-411室

联系人：李力

联系方式：158*****120

邮箱：********5@qq.com

五、公告期限：自2018年11月15日至2018年11月21日止，共计5个工作日。任何供应商、单位或个人对采用单一来源方式公告有异议的，可以向采购管理部门以书面形式实名反映。

六、用户和采购管理部门名称、联系人和联系方式

1、用户：湖南大学机械与运载工程学院

联系人：段辉高，联系电话：152*****249

2.采购管理部门名称：湖南大学实验室建设与设备管理处采购办

地址：湖南省长沙市岳麓山

联系人：彭择令、郑银华，联系电话：****-********

2018年11月14日