理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统中标结果
理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统中标结果
“大连理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统”项目(项目编号:DUTASD-*******) 组织评标工作已经结束,现将评标结果公示如下:
一、项目信息
项目编号:DUTASD-*******
项目名称:大连理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统
项目联系人:宋亮
联系方式:****-********
二、采购单位信息
采购单位名称:大连理工大学
采购单位地址:大连理工大学南门科技园C座409室
采购单位联系方式:宋亮,cgzbdlut@dlut.edu.cn
三、成交信息
招标文件编号:DUTASD-*******
本项目招标公告日期:2018年12月26日
成交日期:2019年01月13日
总成交金额:318.4673 万元(人民币)
成交供应商名称、地址及成交金额:
序号 | 成交供应商名称 | 成交供应商联系地址 | 成交金额(万元) |
1 | 重庆眺望科技有限公司 | 重庆市渝北区龙溪街道红金路55号1幢12-7 | 318.467300 |
本项目代理费总金额:0.0 万元(人民币)
本项目代理费收费标准:
0
谈判小组、询价小组成员名单及单一来源采购人员名单:
王译、白洪亮、张庆瑜
四、项目用途、简要技术要求及合同履行日期:
拟采购一套超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统(ATC-2200-UHV,AJA International,Inc.),用于制备平整的纳米级单层及多层先进薄膜材料,如多层磁性异质结、磁性隧道结、合金薄膜、半导体和氧化物薄膜材料等。
五、成交标的名称、规格型号、数量、单价、服务要求:
(1)超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统主机,ATC-2200-UHV,1套;
(2)溅射靶枪,A320-XP-UHV,11套;
(3)直流电源,DCXS-750-4,6套;
(4)射频电源,A300RF/MU,2套;
(5)控制系统,LabVIEW,1套;
(6)配件,1套;
(7)运保费
六、其它补充事宜
招标
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