理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统中标结果

理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统中标结果


“大连理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统”项目(项目编号:DUTASD-*******) 组织评标工作已经结束,现将评标结果公示如下:

一、项目信息

项目编号:DUTASD-*******

项目名称:大连理工大学超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统

项目联系人:宋亮

联系方式:****-********

二、采购单位信息

采购单位名称:大连理工大学

采购单位地址:大连理工大学南门科技园C座409室

采购单位联系方式:宋亮,cgzbdlut@dlut.edu.cn

三、成交信息

招标文件编号:DUTASD-*******

本项目招标公告日期:2018年12月26日

成交日期:2019年01月13日

总成交金额:318.4673 万元(人民币)

成交供应商名称、地址及成交金额:

序号成交供应商名称成交供应商联系地址成交金额(万元)
1重庆眺望科技有限公司重庆市渝北区龙溪街道红金路55号1幢12-7318.467300

本项目代理费总金额:0.0 万元(人民币)

本项目代理费收费标准:

0

谈判小组、询价小组成员名单及单一来源采购人员名单:

王译、白洪亮、张庆瑜

四、项目用途、简要技术要求及合同履行日期:

拟采购一套超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统(ATC-2200-UHV,AJA International,Inc.),用于制备平整的纳米级单层及多层先进薄膜材料,如多层磁性异质结、磁性隧道结、合金薄膜、半导体和氧化物薄膜材料等。

五、成交标的名称、规格型号、数量、单价、服务要求:

(1)超高真空双室共焦多靶磁控溅射系统主机,ATC-2200-UHV,1套;

(2)溅射靶枪,A320-XP-UHV,11套;

(3)直流电源,DCXS-750-4,6套;

(4)射频电源,A300RF/MU,2套;

(5)控制系统,LabVIEW,1套;

(6)配件,1套;

(7)运保费

六、其它补充事宜


联系人:郝工
电话:010-68960698
邮箱:1049263697@qq.com

标签: 磁控溅射 真空 理工大学

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