电子科技大学-竞价结果详情(CB106142019000061)
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| 基本信息： | |
| 申购单主题： | SG********70001磁控溅射镀膜设备 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 机电设备 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 2019-04-12 15:43 |
| 竞价结束时间： | 2019-04-15 15:51 竞价已结束 |
| 申购备注： | |
| 申购设备详情： |
| 中标供应商 | 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 中标单价 | 报价说明 | 中标理由 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | SG********70001磁控溅射镀膜设备 | 1 | SKKY | TRP-450 | 按行业标准提供服务：在甲方现场验收后，一年内免费维修正常使用出现的故障，非正常的故障维修只核收工本费，终身维修只核收工本费； | 1.高真空多功能磁控溅射镀膜系统，可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等。系统主要由溅射室、磁控溅射靶、直流电源、射频电源、旋转加热基片台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。2.溅射室极限真空度：≤6.6x10-5 Pa (经烘烤除气后)；真空获得采用分子泵（600L/S）和优质机械泵（8L/S），此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。系统从大气开始抽气：溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa；系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa3.真空室为全不锈钢结构，可内烘烤到100～150℃，靶安装在下底盘，基片转台在上盖板。4.靶材尺寸：2英寸；溅射室中配有2套永磁磁控靶和1套强磁磁控靶，通水冷却。磁控靶RF、DC、MF兼容，磁控靶配有气动挡板结构。5.可以具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能，可手动调节共溅射角度。磁控靶与基片的距离可调，调节距离为：90~130mm。6.样品台布置在真空室上部，可放置最大4英寸圆形样品1片，样品具有连续旋转功能，转速5～20转/分连续可调。7.样品台加热温度：室温到600°C，由热电偶闭环反馈控制，可控可调。8.配有3路MFC控制进气系统（Ar、O2、N2），充入工作气体；另有1路气路用于充入普通氮气、解除真空。9.配有1台500w直流电源和2台500w自动匹配射频电源。 | 290000.0 | 除沈阳智诚真空外，价格最低 |
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