半导体芯片用超高纯原材料研制建设项目（武汉拓材科技有限公司）
地区：湖北
项目进度：环评公示
更新时间：2021年04月21日
项目详情
项目概况：半导体芯片用超高纯原材料研制建设项目（武汉拓材科技有限公司） 工程地址：湖北省鄂州市葛店经济技术开发区 区光谷联合科技城C3-3 栋 工程进度：环评公示 项目性质：扩建 项目简介：项目名称 半导体芯片用超高纯原材料研制建设项目建设单位 武汉拓材科技有限公司建设地点 湖北省鄂州市葛店经济技术开发区 区光谷联合科技城C3-3 栋建设概况 占地面积约1000平方米，在现有工程基础上新增研发室，改建水房等。 投资约2000万元《查看详情》
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