基础产品研发大楼建设项目（中国电子科技集团公司第二十一研究所）
地区：上海
项目进度：施工招标
更新时间：2020年11月13日
项目详情
项目概况：基础产品研发大楼建设项目（中国电子科技集团公司第二十一研究所） 工程地址：虹漕路30号 工程进度：施工招标 项目性质：新建 项目简介：项目名称：基础产品研发大楼建设项目（中国电子科技集团公司第二十一研究所）建设单位：中国电子科技集团公司第二十一研究所项目投资：总投资约29000万元。项目地址：虹漕路30号。项目概况：新建基础产品研发大楼项目中，新建建筑总面积36218平方米，其中地上面积25355平方米，地下面积10863平方米。建筑主体地上17层、地下2层，裙楼3层，为钢砼框架剪力墙结构，建筑高度84.45米。《查看详情》
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