中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房（2#综合厂房）项目
地区：北京
项目进度：勘察设计
更新时间：2023年09月26日
项目详情
项目概况：中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房（2#综合厂房）项目 工程地址：北京经济技术开发区泰河三街1号X45F2地块 工程进度：勘察设计 项目性质： 项目简介：项目名称：中国电子科技集团公司第四十五研究所光刻机研发中心综合厂房（2#综合厂房）项目项目地址：北京经济技术开发区泰河三街1号X45F2地块建设单位：中国电子科技集团公司第四十五研究所项目内容：本项目总建筑面积：26610.33㎡，其中地上建筑面积13594.33㎡，地下建筑面积：13016.00㎡；建筑高度：24.3m；最大单体建筑面积26580.33，最大单跨跨度9米。包含综合厂房及相关附属设施等《查看详情》
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