使用Ⅱ类射线装置项目(中国电子科技集团公司第十一研究所)
地区：北京
项目进度：环评公示
更新时间：2017年10月10日
项目详情
项目概况：使用Ⅱ类射线装置项目 工程地址：北京市朝阳区酒仙桥路4号 工程进度：环评公示 项目性质：新建 项目简介：使用Ⅱ类射线装置项目概况： 在焦平面技术研究部一层（即四号楼一层北大厅）新增1台离子注入机，用于十二五核高基碲镉汞长波组件项目的离子注入技术研究。 地点： 北京市朝阳区酒仙桥路4号 《查看详情》
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