原子层沉积系统招标预告

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原子层沉积系统招标预告



原子层沉积系统
(略) 在采购意向: (略) * 年 * 月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称:原子层沉积系统
预算金额: * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 电子工业专用生产设备
采购需求概况:
原子层沉积系统主要用于沉积出薄膜材料,例如Ⅱ-Ⅵ化合物、Ⅱ-Ⅵ基TFEL磷光材料、Ⅲ-V化合物、氮(碳)化物、半导体/介电材料、氧化物介电层、其他 * 元材料、单质材料。原子层沉积系统主要由腔体、气体管路、加热前驱源系统、真空系统、 (略) 分组成。原子层沉积系统(ALD)是半导体器件、半导体材料的制备及集成电路工艺的基础性必备设备,主要用于生长金属氧化物,目前已被广泛的应用于微电子、物理、化学、材料、信息、生物和医学等多个学科领域。
预计采购时间: 点击查看>>
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。




原子层沉积系统
(略) 在采购意向: (略) * 年 * 月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称:原子层沉积系统
预算金额: * . 点击查看>> 万元(人民币)
采购品目:
A 点击查看>> 电子工业专用生产设备
采购需求概况:
原子层沉积系统主要用于沉积出薄膜材料,例如Ⅱ-Ⅵ化合物、Ⅱ-Ⅵ基TFEL磷光材料、Ⅲ-V化合物、氮(碳)化物、半导体/介电材料、氧化物介电层、其他 * 元材料、单质材料。原子层沉积系统主要由腔体、气体管路、加热前驱源系统、真空系统、 (略) 分组成。原子层沉积系统(ALD)是半导体器件、半导体材料的制备及集成电路工艺的基础性必备设备,主要用于生长金属氧化物,目前已被广泛的应用于微电子、物理、化学、材料、信息、生物和医学等多个学科领域。
预计采购时间: 点击查看>>
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排, (略) 和采购文件为准。


    
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