北京原子层招标预告

可以实现二维半导体大尺寸、晶圆级可控生长；多层材料的大面积、均匀可控生长；利用CVD工艺相对较高的成...(原子层在正文或附件中)

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：原子层沉积设备(原子层在正文或附件中)

采购等离子体超高真空高温原子层沉积设备1台用于实现超薄二维原子晶体材料大尺寸、大晶粒、原子层可控制备...(原子层在正文或附件中)

可以实现二维半导体大尺寸、晶圆级可控生长；多层材料的大面积、均匀可控生长；利用CVD工艺相对较高的成...(原子层在正文或附件中)

设备应由ALD粉末反应系统、前驱体源系统软件控制系统等部分组成(原子层在正文或附件中)

1、采购标的名称:(原子层在正文或附件中)

1、采购标的名称:原位真空互联X射线表面分析系统(原子层在正文或附件中)

1、采购标的名称:(原子层在正文或附件中)

本设备是通过控制沉积周期的次数进而实现薄膜厚度的精确控制支撑器件芯片研制和工艺研发。(原子层在正文或附件中)

建设先进的铁电材料物性研究平台需采购关键设备包括高真空度磁控溅射系统、原子层沉积系统（ALD）、铁电...(原子层在正文或附件中)

原子层沉积系统在厚度、成分、结构等沉积参数方面高度可控可用于12英寸基片的图形侧壁沉积工艺(原子层在正文或附件中)

(原子层在正文或附件中)

(原子层在正文或附件中)

原子层沉积系统最大支持8寸配备不大于6个源带清洗程序(原子层在正文或附件中)

采购标的名称：原子层沉积系统(原子层在正文或附件中)

(原子层在正文或附件中)

(原子层在正文或附件中)

(原子层在正文或附件中)

采用热原子层沉积（T-ALD）方法或者等离子体增强原子层沉积（PEALD）方法制备高度致密的、无针孔...(原子层在正文或附件中)

拟建设电子工业洁净实验室主要研究方向为：原子级材料生长、原子层沉积与刻蚀、原子级制造的测量和表征、原...(原子层在正文或附件中)

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：原子层沉积(原子层在正文或附件中)

原子层沉积设备以单原子膜形式逐层镀在基底表面与普通的化学沉积有相似之处但在原子层沉积过程中新一层原子...(原子层在正文或附件中)

衬底尺寸和类型:6英寸/单片3D(原子层在正文或附件中)

专门应用于科学研究领域的单原子层沉积系统在90℃低温条件下生长高质量氧化铪生长薄膜均匀性高缺陷数量少...(原子层在正文或附件中)

循环周期小于2秒、适用于通孔和多孔的基底材料、可快速加热和冷却的冷壁真空反应腔(原子层在正文或附件中)

专门应用于科学研究领域的单原子层沉积系统在90℃低温条件下生长高质量氧化铪生长薄膜均匀性高缺陷数量少...(原子层在正文或附件中)

高精度离子注入设备是一种低离子注入能量高定位精度的新型离子掺杂设备。在未来二维微电子器件的工艺制造中...(原子层在正文或附件中)

原子层沉积系统（ALD）可用于生长介质层材料该系统通过将气相前驱体脉冲交替地通入ALD反应腔分别化学...(原子层在正文或附件中)

解决大面积原子层材料转移过程中存在转移效率低、转移精度不高以及界面质量差的技术问题。拟研制一套可以在...(原子层在正文或附件中)

多功能原子层刻蚀系统主要用于8inch样品表面GaN等材料的低损伤及原子层精度刻蚀工艺设备需同时配套...(原子层在正文或附件中)