中国科学院高能物理研究所2021年3至9月政府采购意向-ICP-CVD气相沉积系统
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中国科学院高能物理研究所2021年3至9月政府采购意向-ICP-CVD气相沉积系统
| ICP-CVD气相沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 高 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高 (略) |
| 采购项目名称： | ICP-CVD气相沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> |
| 采购需求概况： | ICP-CVD气相沉积系统，1套，PECVD系统可以借助微波或射频源使含有薄膜组成原 (略) 部形成等离子体，利用等离子体的强化学活性发生反应，从而在基 (略) 期的薄膜，具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好等优点。可沉积氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等材料，能够实现对沉积厚度的精确控制，还可以通过改变反应气体组分在 * 定范围内调节沉积薄膜的折射率，可应用于微/纳结构中的抗腐蚀层、微纳电子器件中的绝缘层、薄膜太阳能电池等。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
| ICP-CVD气相沉积系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) 高 (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 高 (略) |
| 采购项目名称： | ICP-CVD气相沉积系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> |
| 采购需求概况： | ICP-CVD气相沉积系统，1套，PECVD系统可以借助微波或射频源使含有薄膜组成原 (略) 部形成等离子体，利用等离子体的强化学活性发生反应，从而在基 (略) 期的薄膜，具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好等优点。可沉积氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等材料，能够实现对沉积厚度的精确控制，还可以通过改变反应气体组分在 * 定范围内调节沉积薄膜的折射率，可应用于微/纳结构中的抗腐蚀层、微纳电子器件中的绝缘层、薄膜太阳能电池等。 |
| 预计采购时间： | 点击查看>> |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
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