反应磁控溅射系统招标预告
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反应磁控溅射系统招标预告
| 反应磁控溅射系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年3至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 反应磁控溅射系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 拟采购反应磁控溅射系统1台；完成光电子器件高质量端面镀膜功能，提高光电子器件的光电性能和可靠性，例如提高激光器的输出光功率、斜效率等指标，提高预期寿命等。要求：设备质量应至少满足：极限真空优于3E-7torr，最高加热温度 * 度，控温精度优于+/-2 度；镀膜均匀性: 一个批次内，卡具上片内均匀性优于+/-1%；镀膜重复性: 优于+/-0.5%；膜层致密度:可以镀制高致密薄膜，膜层致密无温飘，使用分光光度计或椭偏仪测量单层膜峰值波长漂移≤ 0.2%(80- * °C下，水煮 1 小时)；两年质保，从双方签字验收之日起开始计算；接到用户通知后，24 小时内响应；若用户有需要，48 小时内可派遣专业人 员赴 (略) 处理相关问题；设备应具有缺相报警、冷却水不足报警、部件温度异常报警、靶材寿命监控报警、真空度不足监控报警、挡板不到位监控报警、漏电保护等安全保护功能。 |
| 反应磁控溅射系统 | |
| (略) 在采购意向： | (略) * 年3至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) |
| 采购项目名称： | 反应磁控溅射系统 |
| 预算金额： | * . 点击查看>> 万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 真空应用设备 |
| 采购需求概况： | 拟采购反应磁控溅射系统1台；完成光电子器件高质量端面镀膜功能，提高光电子器件的光电性能和可靠性，例如提高激光器的输出光功率、斜效率等指标，提高预期寿命等。要求：设备质量应至少满足：极限真空优于3E-7torr，最高加热温度 * 度，控温精度优于+/-2 度；镀膜均匀性: 一个批次内，卡具上片内均匀性优于+/-1%；镀膜重复性: 优于+/-0.5%；膜层致密度:可以镀制高致密薄膜，膜层致密无温飘，使用分光光度计或椭偏仪测量单层膜峰值波长漂移≤ 0.2%(80- * °C下，水煮 1 小时)；两年质保，从双方签字验收之日起开始计算；接到用户通知后，24 小时内响应；若用户有需要，48 小时内可派遣专业人 员赴 (略) 处理相关问题；设备应具有缺相报警、冷却水不足报警、部件温度异常报警、靶材寿命监控报警、真空度不足监控报警、挡板不到位监控报警、漏电保护等安全保护功能。 |
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