北京磁控溅射招标预告

本次采购的设备将用于制备外延氧化物等薄膜材料也可以用于生长金属材料。这有利于简化样品的制备步骤并且其...(磁控溅射在正文或附件中)

本课题组长期从事磁性存储器领域的研究高质量的磁性多层膜成为科研基础。基于当前组内学生规模和薄膜需求需...(磁控溅射在正文或附件中)

用于含锂离子化合物薄膜材料的制备合成比如钴酸锂、锂磷氧氮、锂镧锆氧等。需求功能包括：多靶材共溅射偏压...(磁控溅射在正文或附件中)

采购一台离轴射频偏置磁控溅射用于200(磁控溅射在正文或附件中)

1.采购项目名称：电子材料原位制备测量系统(磁控溅射在正文或附件中)

高精度磁控溅射系统1台套具体要求详见采购文件。(磁控溅射在正文或附件中)

多靶直流/射频磁控溅射镀膜机(磁控溅射在正文或附件中)

设备主要用于氧化钒和氧化物半导体的磁控溅射镀膜用于制备非制冷红外传感器、热耦合晶体管、铁电场效应晶体...(磁控溅射在正文或附件中)

1)系统整体包含进样室和多靶溅射腔室以及配套的控制系统和真空传输系统(磁控溅射在正文或附件中)

采购内容：材料高通量制备教学训练平台1套包括3个系统：材料快速制备演示系统1套（预算25万元）材...(磁控溅射在正文或附件中)

采购内容：材料高通量制备教学训练平台1套包括3个系统：材料快速制备演示系统1套（预算25万元）材...(磁控溅射在正文或附件中)

主要功能：主要用于微纳电子器件制备的高质量氧化物和氮化物薄膜及金属电极材料的沉积工艺。(磁控溅射在正文或附件中)

磁控溅射是物理气相沉积的一种能稳定、可靠、低成本的制备ITO、TiN材料可支撑器件芯片研制和工艺研发...(磁控溅射在正文或附件中)

直流reel-to-reel磁控溅射设备用于在百米级别REBCO超导层上沉积银保护层设备具有卷绕功能...(磁控溅射在正文或附件中)

射频reel-to-reel磁控溅射设备用于在金属基带上沉积百米级别的Y2O3和Al2O3缓冲层以及...(磁控溅射在正文或附件中)

采用磁控溅射成膜方式纯无油真空系统。镜面朝上放置可制备银、铝等介质薄膜膜层致密、环境稳定性好。采用多...(磁控溅射在正文或附件中)

拟采购磁控溅射仪四套靶直流与射频电源各两个。(磁控溅射在正文或附件中)

芯片加工教学研究平台包含桌面式光刻机6台小型磁控溅射设备3台离子束刻蚀机3台多种微纳器件测试设备共5...(磁控溅射在正文或附件中)

两个反应腔室主要用于建立校级微纳工艺平台晶圆表面金属化能力提供除气、ITO等薄膜制备工艺支撑世界一流...(磁控溅射在正文或附件中)

1台；配置9英寸圆形工件台可装载8英寸衬底；304不锈钢D形真空室自动进样室；低温泵、分子泵组；全量...(磁控溅射在正文或附件中)

建设先进的铁电材料物性研究平台需采购关键设备包括高真空度磁控溅射系统、原子层沉积系统（ALD）、铁电...(磁控溅射在正文或附件中)

采购内容：材料高通量制备教学训练平台1套包括3个系统：材料快速制备演示系统1套（预算25万元）材...(磁控溅射在正文或附件中)

1、ICP、空心阴极、介质阻挡、微放电模拟；2、等离子体刻蚀设备中等离子体特性、中性气体特性和刻蚀轮...(磁控溅射在正文或附件中)

等离子表面处理：射频电源0~1000W(磁控溅射在正文或附件中)

(磁控溅射在正文或附件中)

加工尺寸：4英寸直径；本底真空<5*10-7mbar；射源装置(磁控溅射在正文或附件中)

磁控溅射是物理气相沉积的一种。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程和靶原子碰撞把部分动量传给靶原子此靶原...(磁控溅射在正文或附件中)

拟采购数量：1套。包含自动进样室；低温泵、分子泵组；全量程真空计低真空计等；脉冲直流电源射频溅射电源...(磁控溅射在正文或附件中)

平台应至少包括以下腔室：氧化硅磁控溅射腔室、硫化锌磁控溅射腔室、离子束刻蚀腔室和样品交换腔室。其中样...(磁控溅射在正文或附件中)

高功率脉冲磁控溅射技术制备薄膜试验 项目采购意向公开 为充分调查了解市场资源潜力、广泛征求供...(磁控溅射在正文或附件中)